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超低濕烘箱高溫低濕烤箱濕敏原件烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的專用烘烤設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)：40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh125℃~150℃/&...

芯片真空存儲(chǔ)箱 真空充氮儲(chǔ)存柜 真空氮?dú)夤褚环N用于存儲(chǔ)芯片等高價(jià)值物品的特殊存儲(chǔ)設(shè)備，它采用真空密封的存儲(chǔ)方式，可以有效地防止芯片受到空氣氧化和潮氣的影響，從而...

精密熱板光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過(guò)再一次烘烤，因?yàn)檫@次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤"，簡(jiǎn)稱后烘或堅(jiān)膜，英文為Post Ex...

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積晶圓基底脫水烘烤

真空保存箱 真空儲(chǔ)存柜真空防潮柜適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所，適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、...

真空防潮存儲(chǔ)箱真空儲(chǔ)存柜真空干燥柜彩色觸摸屏界面，集成式控制，位于箱體上方，可自動(dòng)/手動(dòng)控制，，也可用于材料器件、部件、元件的脫濕處理。

HMDS氣相成底膜烘箱真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預(yù)處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達(dá)到65或更高。

真空存儲(chǔ)柜 真空干燥柜 真空氮?dú)夤襁m用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、...

HMDS預(yù)處理機(jī)H-2智能HMDS真空烘箱為半導(dǎo)體應(yīng)用的光刻膠粘合促進(jìn)劑工藝設(shè)備，

反轉(zhuǎn)真空烘箱圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業(yè)中，可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業(yè)中，可以用于航空發(fā)動(dòng)...

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)...

掩膜版HMDS真空烘箱hmds烤箱使基底表面由親水性變?yōu)槭杷裕鰪?qiáng)表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、...

防凝露高低溫濕熱箱除濕恒溫恒濕試驗(yàn)箱溫度試驗(yàn)箱在高溫段持續(xù)輸入箱內(nèi)進(jìn)行空氣置換，可將箱內(nèi)空氣露點(diǎn)降至露點(diǎn)。其次在降溫段保持干空氣的輸入，維持箱內(nèi)對(duì)外界空氣形成微...

超低濕恒溫恒濕箱 低溫低濕實(shí)驗(yàn)箱是模擬GB/T10586-2006濕熱試驗(yàn)箱技術(shù)條件、GB/T10589-2008低溫試驗(yàn)箱等技術(shù)條件；GB/T11158-20...

真空烤箱 可程式真空箱 自動(dòng)真空烘箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計(jì)，能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥。

氮?dú)鉂崈艉嫦涔饪棠z無(wú)塵烘箱 百級(jí)烘箱適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研.

HDMS烘箱HDMS真空烘箱HDMS預(yù)處理烘箱保護(hù)裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報(bào)&警提示，HMDS低液位報(bào)&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等

低濕度恒溫恒濕箱 低溫低濕箱 10濕度試驗(yàn)箱模擬試品在溫濕度變化環(huán)境條件下加載模擬振動(dòng)的適應(yīng)性試驗(yàn)及對(duì)電子元器件的安全性測(cè)試提供可靠性試驗(yàn)、產(chǎn)品篩選等。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對(duì)晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

HMDS烘箱圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反...