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ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合的DLP技術(shù)，實現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到“所見即所得"，極大提升了操作便捷性和工藝可控性。它的光路結(jié)構(gòu)和高精度直線電機(jī)位移臺確保了曝光精度和重復(fù)定位能力，同時配備CCD相機(jī)逐場自動對焦系統(tǒng)，進(jìn)一步優(yōu)化了成像質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性。設(shè)備支持電動物鏡切換和激光主動對焦功能，能夠靈活應(yīng)對不同應(yīng)用場景的需求。其緊湊的桌面小型化設(shè)計不僅節(jié)省空間，還便于在實驗室或生產(chǎn)環(huán)境中部署。此外，ZML10A配備了直觀易用的軟件界面，大幅降低了操作門檻，即使是初學(xué)者也能快速上手。無論是超材料結(jié)構(gòu)、電極圖案還是微流控芯片等復(fù)雜微納結(jié)構(gòu)的制備，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工業(yè)用戶的理想選擇。

• 技術(shù)特點

▲ 桌面小型化

▲ 高功率、高均勻度LED刻寫光源

▲ 黃光/綠光引導(dǎo)曝光，所見即所得

▲ CCD相機(jī)逐場圖像自動對焦

▲ 高精度直線電機(jī)位移臺

▲ 易于操作的軟件界面

• 光路遠(yuǎn)離結(jié)構(gòu)圖

DMD激光直寫光刻機(jī)

• 主要指標(biāo)

關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)
紫外光源中心波長	405nm
曝光均勻度	90%
最小特征線寬	0.5um
單次寫場曝光面積	0.6*0.4mm（@0.5um）
刻寫速率	3mm^2/min(@0.5um)
配置	基礎(chǔ)版	專業(yè)版
光源	強光LED：405nm
DMD芯片	DLP6500
單場曝光面積	0.60.4mm（@0.5um）、1.20.8mm（@0.8um） 2.41.6mm（@1.5um）、128mm（@8um）
相機(jī)	大靶面顯微相機(jī)（支持尺寸測量）
套刻精度	1um	0.7um
刻寫速度	3mm2/min(@0.5um)	20mm2/min(@0.5um)
運動臺	高精度直線電機(jī)（重復(fù)定位精度±0.5um）調(diào)平機(jī)構(gòu)、手動旋轉(zhuǎn)臺	高精度直線電機(jī)（重復(fù)定位精度±0.5um）調(diào)平機(jī)構(gòu)、電動旋轉(zhuǎn)臺
物鏡轉(zhuǎn)換器	手動物鏡切換	電動物鏡切換
對焦模組	CCD圖像自動對焦	激光主動對焦
支持硅片尺寸	4inch	8inch