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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司


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化學(xué)氣相沉積（PECVD）

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參  考  價(jià):￥10 - ￥280 /臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào)

    PECVD-601/801/1201

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    北京市

聯(lián)系方式：陳經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2024-04-09 10:08:22瀏覽次數(shù)：164次

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經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：12條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：陳經(jīng)理 （銷售經(jīng)理）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn)    

是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

詳細(xì)介紹

應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 高性能薄膜制備

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★沉積材料：包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅鍺合金（SiGe）、鎢硅合金（WSi2）、W、SiC。

★沉積腔體：高真空系統(tǒng)

★沉積不均勻性：±3%-±6%

★沉積速率：20-600nm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺(tái)：可升降，高度可調(diào)

★加熱：常規(guī)加熱，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流偏壓

★氣路數(shù)量與種類：標(biāo)配4路氣路 或 用戶選配

★光學(xué)性能監(jiān)測(cè)：可選配橢偏儀在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

★漸變折射率薄膜制備：可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)

★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制

類似產(chǎn)品：帶預(yù)真空室（PECVD-8100）


關(guān)鍵詞：工作臺(tái) 橢偏儀

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