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北京中科復華科技有限公司

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磁控濺射鍍膜設備

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參考價:￥10 - ￥280 /臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號
MSP-300/400/5100/6200
品牌
其他品牌
廠商性質
生產商
所在地
北京市

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更新時間：2024-04-09 10:03:17瀏覽次數(shù)：700次

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  鍍膜設備

化學氣相沉積

熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機設備

磁控濺射

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經營模式：生產廠家

商鋪產品：12條

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聯(lián)系人：陳經理（銷售經理）

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產品簡介

產地	國產

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離。

詳細介紹

應用方向：科研與教學

產品優(yōu)勢：效率高+多功能；垂直濺射+傾斜共濺射

產品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：6片Ф2英寸（垂直濺射）+ 1片Ф4英寸（共濺射）

★濺射材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★濺射腔體：高真空系統(tǒng)。

★濺射不均勻性：≤±3%-±5％

★磁控靶：2-4支；可調角度；可調距離

★濺射方向：樣品下置（自上而下濺射）或樣品上置（自下而上濺射）

★加熱：常規(guī)加熱，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流；直流脈沖；直流偏壓

★清洗功能：可選配考夫曼離子源

★快速反應濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監(jiān)控功能：可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

★操作模式：全自動+半自動控制

類似產品：MSP-300C；MSP-400B

選型參考：樣品在下（MSP-300B）；樣品在上（MSP-300BT）；配置考夫曼離子源（MSP-300BI/MSP-300BTI）

應用方向：棒狀樣品批量生產

產品優(yōu)勢：棒狀樣品側壁鍍膜，立式設備

產品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：30-300根；Ф1mm～Ф30mm，L30mm～L200mm（依據(jù)靶尺寸和樣品尺寸定制）

★濺射材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★濺射腔體：高真空系統(tǒng)。

★濺射不均勻性：≤±5%-±8％

★磁控靶數(shù)量：2-4支矩形磁控靶

★磁控靶安裝形式：立式安裝

★樣品夾具：公轉+自轉

★加熱：常規(guī)加熱

★電源配置：射頻；直流

★清洗功能：可選配離子源清洗、射頻清洗、反濺清洗模式

★快速反應濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監(jiān)控功能：可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

★操作模式：全自動+半自動控制

類似產品：片狀樣品批量鍍膜（MSP-5100C）

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