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北京中科復(fù)華科技有限公司
初級(jí)會(huì)員 | 第1年

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當(dāng)前位置:北京中科復(fù)華科技有限公司>>刻蝕設(shè)備>>反應(yīng)離子刻蝕>> DISC-RIE-601/801/1201反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)

參  考  價(jià):10 - 280 /臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)

    DISC-RIE-601/801/1201

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    北京市

更新時(shí)間:2025-05-16 16:07:42瀏覽次數(shù):356次

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產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn)
反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的,利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用

應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):刻蝕速率控制方便,耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體,帶雙片送取樣室(Load-Lock)

產(chǎn)品配置:

樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸

刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

Load-Lock:低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,樣品自動(dòng)運(yùn)送。

刻蝕不均勻性:±3%-±6%

刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)

工作臺(tái):可升降,包含水冷

電源配置:下電偏壓,包含自動(dòng)匹配

氣路數(shù)量與種類:6路氣路,其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配

He冷背吹系統(tǒng):可選配

終點(diǎn)檢測(cè)控制:可選配質(zhì)譜儀

操作模式:全自動(dòng)+半自動(dòng)控制




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