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北京中科復華科技有限公司
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ABM/6/350/NUV/DCCD/SA紫外光刻機
| 參考價 | ￥200-￥280 | /件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
- ABM/6/350/NUV/DCCD/SA 型號
- 其他品牌 品牌
- 生產(chǎn)商 廠商性質
- 北京市 所在地
訪問次數(shù)：655更新時間：2025-04-25 17:05:42
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產(chǎn)品簡介
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
|---|
產(chǎn)品介紹
主要配置：
6“，8"光源系統(tǒng)
可支持2“，3"，4“，6"，8“（圓/方片）及碎片光刻
手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng)
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）
支持背后對準及MEMS工藝要求
CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)
主要性能指標：
光強均勻性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2" 區(qū)域
--<±2% over 4" 區(qū)域
--<±3% over 6" 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準精度 ± 0.5um
背面對準精度±1um--±2um（Depends on user）
支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
支持LED優(yōu)異電流控制技術PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強或恒定功率模式
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