污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2023-11-07 10:42:45瀏覽次數(shù)：811次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線描述產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：?可制備各種金屬、單質(zhì)、無(wú)機(jī)非金屬薄膜?不破真空情況下
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
? 可制備各種金屬、 單質(zhì)、 無(wú)機(jī)非金屬薄膜
? 不破真空情況下， 可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備
? 一鍵操作， 全自動(dòng)控制， 智能化程度高
? 一致性、 重復(fù)性好
? 內(nèi)置多重靶材工作參數(shù)， 無(wú)需摸索鍍膜工藝
? 體積小， 結(jié)構(gòu)緊湊， 非常節(jié)約空間
產(chǎn)品參數(shù)：
| 外形尺寸（主機(jī)） | 424(L)×345(D)×420(H) | 輸入電源 | 220V/50Hz 1000W |
| 濺射靶頭 1 | 直流磁控濺射 | 可用靶材 | 金屬靶材 |
| 濺射靶頭 2 | 射頻磁控濺射 | 可用靶材 | 無(wú)機(jī)非金屬靶材 |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵+旋片式真空泵 | 抽速 | 90L/s + 1.1L/s |
| 真空測(cè)量 | 復(fù)合式真空規(guī) | 量程范圍 | 1E-3 ~ 1E5Pa |
| 真空室 | φ 200×130mm 高硼硅玻璃 | 抽氣節(jié)拍 | 10 分鐘（≤5E-3Pa） |
| 樣品臺(tái)尺寸 | φ 90mm | 樣品臺(tái)切換 | 自動(dòng)控制 |
| 濺射靶材尺寸 | φ 57mm（厚度 0.1-2mm） | 工作真空 | 0.1-2Pa |
| 操作界面 | 7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 | 操作語(yǔ)言 | 中文（可選其它語(yǔ)言） |
| 冷水機(jī) | 小型臺(tái)式制冷機(jī) | 冷水機(jī)功率 | 180W |
| 預(yù)濺射擋板 | 標(biāo)配全自動(dòng)控制預(yù)濺射擋板 | ||
|
膜厚儀（選配） | 可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過(guò)設(shè)定來(lái)控制鍍膜過(guò)程，測(cè)量精度 0.01nm，設(shè)定精度 0.1nm，單次設(shè)定范圍 1-999nm | ||
| 溫控組件（選配） | 樣品臺(tái)加熱模塊 300℃/500℃ | ||
| 旋轉(zhuǎn)組件（選配） | 傾斜旋轉(zhuǎn)、行星旋轉(zhuǎn)等 | ||
| 小車（選配） | 將主機(jī)、射頻電源、冷水機(jī)等組裝在一起，整體性好 | ||
| 安裝環(huán)境 | 220V/10A 三孔插座一個(gè)、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa） | ||
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