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深圳市誠達輝凈化科技有限公司
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2009/3/17
2009/3/17
2009/3/17
聯(lián)電將在32nm制程采用HKMG 計劃2010年推出
半導體芯片制造商聯(lián)華電子(UnitedMicroelectronicsCorp,UMC)本周三正式宣布,該公司已經(jīng)在45納米SRAM產品上正式驗證了其高K金屬閘極(High-KMetalGate,HKMG)技術,這代表著聯(lián)電在芯片制造工藝上的一個重大里程碑。據(jù)透露,聯(lián)電將會在下一代32/28納米制程【詳細】 閱讀:727環(huán)保在線 設計制作,未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
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