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聚焦離子束掃描電子顯微鏡Crossbeam

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:許先生 查看聯(lián)系方式

更新時間:2025-07-15 16:02:08瀏覽次數(shù):24次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:92條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:許先生

產(chǎn)品簡介

蔡司雙束電鏡Crossbeam系列專為高通量3D分析和樣品制備量身打造的FIB-SEM,蔡司雙束電鏡Crossbeam系列結(jié)合了高分辨率場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)的出色成像和分析性能,以及新一代聚焦離子束(FIB)的優(yōu)異加工能力。無論是用于多用戶實(shí)驗(yàn)平臺,還是科研或工業(yè)實(shí)驗(yàn)室, 利用Crossbeam系列模塊化的平臺設(shè)計理念,您可基于自身需求隨時升級儀器系統(tǒng)(例如使用LaserFIB進(jìn)行大規(guī)模......

詳細(xì)介紹

蔡司雙束電鏡Crossbeam系列

專為高通量3D分析和樣品制備量身打造的FIB-SEM

蔡司雙束電鏡Crossbeam系列結(jié)合了高分辨率場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)的出色成像和分析性能,以及新一代聚焦離子束(FIB)的優(yōu)異加工能力。無論是用于多用戶實(shí)驗(yàn)平臺,還是科研或工業(yè)實(shí)驗(yàn)室, 利用Crossbeam系列模塊化的平臺設(shè)計理念,您可基于自身需求隨時升級儀器系統(tǒng)(例如使用LaserFIB進(jìn)行大規(guī)模材料加工)。在加工、成像或是實(shí)現(xiàn)三維重構(gòu)分析時,Crossbeam系列將大大提升您的聚焦離子束(FIB)應(yīng)用效率。

使您的掃描電鏡(SEM)具備強(qiáng)大的洞察力

提升您的聚集離子束(FIB)樣品制備效率

在您的雙束電鏡(FIB-SEM)分析中體驗(yàn)出色的三維空間分辨率


產(chǎn)品優(yōu)勢

使您的掃描電鏡具備強(qiáng)大的洞察力

通過樣品臺減速技術(shù)(Tandem decel,新型蔡司Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)的一項功能)實(shí)現(xiàn)低電壓電子束分辨率提升高達(dá)30%。

使用Gemini電子光學(xué)系統(tǒng),您可以從高分辨率掃描電鏡(SEM)圖像中獲取真實(shí)的樣品信息。

在進(jìn)行高度靈敏表面二維成像或三維斷層成像時,您可以信賴蔡司雙束電鏡Crossbeam系列的性能。

即使在使用非常低的加速電壓時也可獲得高分辨率、高對比度和高信噪比的清晰圖像。

借助一系列的探測器實(shí)現(xiàn)樣品的表征;使用的Inlens EsB探測器獲得更純的材料成分襯度。

使用低電壓表征不導(dǎo)電樣品,消除荷電效應(yīng)的影響。


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提升您的聚焦離子束(FIB)樣品制備效率

得益于智能聚焦離子束(FIB)的掃描策略,移除材料相比以往實(shí)驗(yàn)快40%以上。

鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor采用了全新的加工方式:盡可能減少樣品損傷,提升樣品質(zhì)量,從而加快實(shí)驗(yàn)進(jìn)程。

使用高達(dá)100 nA的離子束束流,高效而精確地處理樣品,并保持高分辨率。

制備TEM樣品時,請使用鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor的低電壓功能:獲得超薄樣品的同時,盡可能降低非晶化損傷。


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在您的雙束電鏡分析中體驗(yàn)出色的三維空間分辨率

體驗(yàn)整合的三維能譜和EBSD分析所帶來的優(yōu)勢。

在切割、成像或執(zhí)行三維分析時,Crossbeam系列將提升您的FIB應(yīng)用效率。

使用的快速精準(zhǔn)三維成像及分析軟硬件包——Altas 5來擴(kuò)展您的Crossbeam性能。

使用Atlas 5中集成的三維分析模塊可在三維斷層成像過程中進(jìn)行EDS和EBSD分析。

雙束電鏡的斷層成像可獲得優(yōu)異的三維空間分辨率和各向同性的三維體素尺寸;使用Inlens EsB探測器探測小于3 nm的深度,可獲得極表面的材料成分襯度圖像。

在加工過程中收集連續(xù)切片圖像以節(jié)省時間;精確的體素尺寸和自動流程保證圖像質(zhì)量。


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關(guān)鍵詞:電壓表
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