青島佳鼎分析儀器有限公司
詳細(xì)摘要： MATTSON二手刻蝕機ASPENIII，2006年設(shè)備，lightetcher，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIXSYSTEMONE106，1995年設(shè)備，可對4-6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-14 在線留言
詳細(xì)摘要： 二手刻蝕機現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設(shè)備，可對尺寸為5英寸的晶圓進行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-13 在線留言
詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蝕機
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-05 在線留言
詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICS660刻蝕機二手現(xiàn)貨，2008年設(shè)備，僅運行16小時，微波等離子刻蝕設(shè)備
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-30 在線留言
詳細(xì)摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設(shè)計，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-21 在線留言
詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)Tactras™是一種高度可靠的300毫米等離子蝕刻系統(tǒng)，可提高蝕刻工藝的工作效率
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-20 在線留言
詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)CertasLEAGA™是一種環(huán)保、高通量的氣體化學(xué)蝕刻系統(tǒng)，專為300毫米晶圓而設(shè)計，無需使用液體即可提供表面蝕刻和清潔
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-19 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMCO等離子刻蝕機RIE-300NR是一種理想的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-14 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMCOICP刻蝕機RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細(xì)加工的負(fù)載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-13 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機RIE-400iP是用于?4"晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導(dǎo)體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-12 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMACOICP蝕刻設(shè)備RIE-800iPC，具有優(yōu)良工藝再現(xiàn)性的生產(chǎn)設(shè)備它是一種使用感應(yīng)耦合等離子體作為放電類型的高密度等離子體蝕刻設(shè)備
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-11 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-10 在線留言
詳細(xì)摘要： Lam9600旨在蝕刻具有高度垂直側(cè)壁的鋁金屬和TiW層，適用于0.35um線寬
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： SAMCO二手翻新刻蝕系統(tǒng)刻蝕機RIE-10NR產(chǎn)品優(yōu)勢：高度緊湊型設(shè)計，節(jié)約空間
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-01-09 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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