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CVD缺陷生長(zhǎng)二維層

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更新時(shí)間：2024-02-08 15:36:36瀏覽次數(shù)：58次

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簡(jiǎn)要描述：Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses.

詳細(xì)介紹

Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses. Please contact us for details and pricing.