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行業(yè)產(chǎn)品

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鄭州成越科學儀器有限公司


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UPS三靶磁控濺射鍍膜機

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參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號CY-MSP325S-3RF-D

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地

聯(lián)系方式:汪紀彬查看聯(lián)系方式

更新時間:2022-10-28 16:23:23瀏覽次數(shù):202次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:104條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:汪紀彬

產(chǎn)品簡介

簡單介紹: 三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標準化,模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜,導電膜,合金膜,半導體膜,陶瓷膜,介電膜,光學膜,氧化物膜,硬膜,PTFE膜等。 與同類設(shè)備相比,這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛,而且具有體積小,操作簡便的優(yōu)點,是實驗室制備材料膜的理想設(shè)備。

詳細介紹

詳情介紹:

技術(shù)參數(shù)



電源電壓

交流220v,60Hz

UPS


20KVA 16KW,延遲1小時

16節(jié)電池,容量38AH

真空室

尺寸:直徑 325毫米*385毫米

材質(zhì):304不銹鋼

視口(窗口):約4英寸(100毫米),帶快門

樣品臺

頂部樣品架

樣品表:直徑 150毫米

樣本數(shù)量:*大 直徑4英寸

轉(zhuǎn)速:0-40rpm可調(diào)

加熱溫度:*高700oC

水冷裝置

水流量:2.3m3 / h

電源:3P

制冷量:8250Kcal / h

壓縮機輸出功率:2.25KW

磁控濺射槍

3×2''磁控濺射槍,帶自動快門

向上濺射方向

目標直徑:2英寸

磁鐵:稀土磁鐵

射頻發(fā)生器

l3×RF 300W自動匹配電源

l功率輸出范圍:5W?300W

l*大反射功率:100W

l電源穩(wěn)定性:±0.1

l諧波成分:≤-50dbc

l電源:單相187-253 VAC,50 / 60HZ

效率:≥70

l功率因數(shù):≥90

l反射功率(*大功率):<3W

l*大負載電流:30ARMS

l*大負載電壓:7500VRMS

射頻輸出接口:50Ω,L29或定制

比賽時間:1?3s

l匹配阻抗的實部范圍:0?80Ω

l匹配阻抗的虛部范圍:﹣200j?﹢ 200j

l冷卻方式:強制冷卻

質(zhì)量流量計

l3×MFC質(zhì)量流量控制(Ar,O2N2

l測量范圍:*大20sccm

帶氣動隔離閥和過濾器。

通過PCPLC全自動控制

儲存至少100個配方

19''平板控制器



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