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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地沈陽市
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更新時間：2023-06-30 21:30:26瀏覽次數(shù)：127次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介： VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統(tǒng)配置三個靶槍，一個配套射頻電源通過轉(zhuǎn)換開關(guān)可以分別連接至任一靶頭，用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究薄膜電池、固態(tài)電解質(zhì)及OLED等，與普通磁控濺射相比可以做Li靶材及鋰基材料靶材的鍍膜實驗，是新能源行業(yè)實驗室鍍膜實驗的理想設(shè)備。
| 產(chǎn)品名稱 | VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng) |
| 主要特點 | 1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源通過轉(zhuǎn)換開關(guān)可以分別連接至任一靶頭，用于各類靶材的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換）。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、整機模塊化設(shè)計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍（選配）。 6、可在手套箱內(nèi)進行實驗操作，更換各類易氧化的靶材用于鍍膜實驗。 |
| 技術(shù)參數(shù) | 三靶磁控濺射部分 1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：2.5KW 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司機械泵設(shè)備使用可達到 E-3mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：3個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、濺射電源功率：300W（射頻）/500W（直流） 9、載樣臺：Ø140mm 10、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 11、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 12、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM 手套箱部分 1、電源：單相AC110V-220V 50Hz/60Hz 2、殼體材料：304不銹鋼 3、手套箱腔體：1220mm×760mm×900mm 4、前級室：設(shè)有2個前級室，大前級室Ø360mm×600mm，小前級室Ø150mm×300mm 5、腔體環(huán)境：水含量<1ppm（20℃，1atm），氧含量<1ppm（20℃，1atm） 6、工作氣體：N2、Ar、He等惰性氣體 7、控制氣體：壓縮空氣或惰性氣體 8、還原氣體：工作氣體和H2的混合氣（如果凈化系統(tǒng)只有除水功能，還原氣體與工作氣體相同） 9、氣體凈化系統(tǒng)：德國BASF除氧材料、美國UOP高效吸水材料，凈化系統(tǒng)再生過程自動控制，自動除水、 除氧功能，可長期、持續(xù)維持氣體純度在水<1ppm、氧<1ppm 10、壓力控制系統(tǒng)：腔體氣壓可通過PLC觸摸屏自動控制，控制精度為±1Pa，也可通過腳踏開關(guān)進行手動控制 11、過濾系統(tǒng)：進、出氣端都裝有過濾器，過濾精度為0.3μm 12、控制系統(tǒng)：SIEMENS彩色觸摸屏（6寸），PLC控制系統(tǒng)，中英文雙語可切換； 水探頭采用美國GE品牌，0-1000ppm觸摸屏顯示，精度0.1ppm； 氧變送器采用美國AII品牌，0-1000ppm觸摸屏顯示，精度0.1ppm； 壓力傳感儀采用美國setra品牌，-2500-2500Pa觸摸屏顯示，精度±1Pa； 13、真空泵：采用英國EDWARDS品牌，抽速8.4m3/h-12m3/h 14、手套：美國NORTH品牌丁基合成橡膠 15、照明系統(tǒng)：飛利浦品牌熒光燈管 |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 三靶磁控濺射部分：950mm×460mm×810mm 手套箱部分：2300mm×1500mm×1900mm |
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