邁可諾技術(shù)有限公司
會(huì)員1.png)
詳細(xì)摘要： 狹縫式薄膜涂布機(jī)（狹縫擠出式涂布機(jī)/鈣鈦礦太陽(yáng)能電池涂布機(jī)）適用于有機(jī)太陽(yáng)能電池OPV和鈣鈦礦太陽(yáng)能電池PVK等基材的涂布，非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產(chǎn)品型號(hào)：CS18所在地：上海市更新時(shí)間：2021-06-07 在線留言
詳細(xì)摘要： Harrick 氣體流量控制器技術(shù)參數(shù)：緊湊的臺(tái)式設(shè)備、符合CE 安全標(biāo)準(zhǔn)兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的氣體流量計(jì)（0.104 scfh & 0.22 scfh）
產(chǎn)品型號(hào)：PDC-FMG-2所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Tg = 60℃優(yōu)異的成膜質(zhì)量由于高效的流動(dòng)性和快速壓印從而縮短整個(gè)工藝時(shí)間
產(chǎn)品型號(hào)：mr-I 7000E、mr-I 8000E所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以...
產(chǎn)品型號(hào)：全系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng)，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。
產(chǎn)品型號(hào)：全系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：1、Futurrex光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年3、150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間4、單次旋...
產(chǎn)品型號(hào)：RD3、RD6所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng)，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。主要客戶(hù)有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHAR...
產(chǎn)品型號(hào)：PR3、PR41所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： SU-8 3000抗蝕劑經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)，可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬，噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑，例如乳酸乙酯和雙丙酮...
產(chǎn)品型號(hào)：3010/3005/3025/3050所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 為了獲得大的過(guò)程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚(yú)濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后...
產(chǎn)品型號(hào)：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。
產(chǎn)品型號(hào)：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光...
產(chǎn)品型號(hào)：NXQ4000系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻...
產(chǎn)品型號(hào)：MMA16所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開(kāi)發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...
產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對(duì)準(zhǔn)器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對(duì)準(zhǔn)對(duì)頂側(cè)表面進(jìn)行接觸，軟接觸和接近圖...
產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專(zhuān)為滿(mǎn)足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產(chǎn)品型號(hào)：CESx124所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 手動(dòng)型SCS112SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的系統(tǒng)，專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片?？赏ㄟ^(guò)施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來(lái)清潔安裝在環(huán)（抓環(huán)）或膠片框架...
產(chǎn)品型號(hào)：SCS112/SCSe124/SCSe126所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產(chǎn)品型號(hào)：WS-1000M所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠...
產(chǎn)品型號(hào)：EDC-650HZ-23NPPB所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 特點(diǎn)：1.帶進(jìn)膠保護(hù)與報(bào)警2.旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換3.帶速度上升曲線實(shí)時(shí)顯示4.吸附不足報(bào)警與互鎖 5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕6.腔室?guī)С閺U...
產(chǎn)品型號(hào)：KW-4E所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： SPIN德國(guó)勻膠機(jī)150i型適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列勻膠機(jī)具有穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟動(dòng)，...
產(chǎn)品型號(hào)：SPIN150i所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
日本小野光電式轉(zhuǎn)速表 非接觸式數(shù)字轉(zhuǎn)速表
HT-3200 面議
手持?jǐn)?shù)字式轉(zhuǎn)速表HT-5500
HT-5500 面議
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
