污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
邁可諾技術(shù)有限公司
產(chǎn)品型號CESx124
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間:2021-05-20 17:17:23瀏覽次數(shù):453次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線大基板尺寸 | 13英寸直徑 |
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簡介:這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項(xiàng),Megasonic噴嘴對DI H20或化學(xué)藥品的處理分配選項(xiàng);用于化學(xué)制劑的低壓噴嘴;化學(xué)加熱器和DI-H20;用于表面攪拌以加快反應(yīng)的
特點(diǎn):
技術(shù)參數(shù):
主營產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機(jī)
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 濕法刻蝕系統(tǒng) 刻蝕/剝離系統(tǒng) 化學(xué)清洗/刻蝕系統(tǒng) CESx124 Etch/Strip |
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