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鄭州科佳電爐有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S
品 牌
廠商性質生產(chǎn)商
所 在 地
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更新時間：2022-09-01 18:24:32瀏覽次數(shù)：257次
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產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成
產(chǎn)品介紹：
KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成 ，溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合，可以對多種氣體進行精確的混氣，然后導入到管式爐內(nèi)部。
KJ-T1200-S6015LK1-H系列快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。
應用范圍：
KJ-T1200-S6012CK-3F5S型高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD系統(tǒng)，廣泛應用于半導體工業(yè)中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品。
規(guī)格參數(shù)：
| 結構 | 采用雙層殼體結構，并帶有分冷，使得殼體表面的溫度小于55°C。保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維可以環(huán)保節(jié)能，減少熱量的損失內(nèi)爐膛表面涂有進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命 | |
| 加熱元件 | 摻鉬合金加熱絲 | |
| 工作溫度 | 1100°C | |
| 溫度 | 1200°C | |
| 升溫速率 | 20°C/min | |
| 加熱區(qū)長度 | 400mm (18") | |
| 恒溫區(qū)長度 | 180mm(+/-1°C) | |
| 溫控系統(tǒng) | 一個精密溫度控制器 PID方式控制，通過可控硅 SCR可設置30段升降溫程序。 | |
| 控溫精度 | +/-1°C | |
| 爐管材質和尺寸 | 石英管 ID: 72mm x OD: 80 mm x 1000 mm | |
| 密封法蘭 | 兩個不銹鋼密封法蘭，法蘭上已經(jīng)安裝數(shù)字式真空顯示計，和閥門通過機械泵真空壓力可以達到5x10-2 torr，泄漏率6 mtorr/min | |
| 輸入電源 | AC 208~240V, 單相, 50/60Hz, 功率：5KW | |
| 真空泵和配件 | 真空泵 | 一個雙旋片式機械泵安裝在移動架內(nèi)通過此機械泵真空度可以達到 5x10^-2 torr |
| 配件 | 標配的真空配件: 一對不銹鋼 密封法蘭和KF-25 真空泵接口，兩個不銹鋼針閥， 1/4"的軟管接頭一個1000mm長的KF-25 不銹鋼波紋管和四個KF-25不銹鋼快速卸裝卡箍一個LED數(shù)字式真空顯示計（測量范圍： 0.1mtorr ~ 850 torr) | |
| 氣體流量計 | 4個浮子流量計，可同時混入4種不同氣體。 四通道控制 精度0.02% 、數(shù)字顯示、自動控制、 一個混氣罐、底部裝有泄廢液口 MFC 1范圍 0~100 sccm MFC 2和3 0~500 sccm 進氣接口 1/4NPS 出氣接口 1/4NPS | |
| 產(chǎn)品尺寸 | 外徑80 & 1000mm 的氧化鋁石英管 爐體尺寸：550 x 500 x 700mm L x W x H 混氣系統(tǒng)：: 600 x 600 x 700mm 真空機組： 600 x 600 x 700mm | |
標準配件：
浮子混氣系統(tǒng)1臺、雙旋機械泵1臺、K型熱電偶1支、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套、不銹鋼爐鉤1、剛玉爐塞2對、高溫手套1副、剛玉坩堝2個、說明書1份
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