鄭州科佳電爐有限公司
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜
產(chǎn)品型號：KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地：更新時間：2022-09-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：卷對卷式PECVD是等離子增強型化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），并加裝了收放卷裝置
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-JCY所在地：更新時間：2022-09-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現(xiàn)TEOS...
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-PE所在地：更新時間：2022-09-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品描述：KJ-T1200PECVD是一種PECVD（等離子體增強化學(xué)氣相沉積）的管式爐系統(tǒng)，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空...
產(chǎn)品型號：KJ-T1200 PECVD所在地：更新時間：2022-09-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實現(xiàn)薄膜技術(shù)生長的一種系的制備技術(shù)
產(chǎn)品型號：KJ-PECVD-D1所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S60LC-H2所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng)，由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S80-DZPECVD-R所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹:六通道高真空PECVD系統(tǒng)是一款由1200度管式爐，等離子射頻電源，分子泵高真空，六通道氣路等組成的等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，加熱腔體采用氧化鋁纖維制品...
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S60-6ZH-PE所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：滑道式PECVD系統(tǒng)由PT-1200T管式爐加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、等離子射頻電源系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S6044-LK-Z所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：該設(shè)備是一款帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S06LC-YR所在地：更新時間：2022-09-01 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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