超純水設(shè)備廠家|實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備|工業(yè)

       制造的水是純度*的水。集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
超純水：既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。 　　
       超純水,是一般工藝很難達(dá)到的程度，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理四大步驟，多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm 　　
        純水設(shè)備是美國(guó)科技界為了研制超純材料（半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等）應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)的制水設(shè)備，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì)，更沒(méi)有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒(méi)有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，一般不可直接飲用，對(duì)身體有害，會(huì)析出人體中很多離子。
       ，目前的主要工藝流程 　　
            1.預(yù)處理----復(fù)床 ----混床---拋光樹(shù)脂 　　
            2.預(yù)處理----反滲透---混床---拋光樹(shù)脂 　　
            3.預(yù)處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹(shù)脂

中國(guó)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室分析用水標(biāo)準(zhǔn)（GB6682-92）《分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和實(shí)驗(yàn)方法》： 　　
        指標(biāo)名稱 一級(jí)水 二級(jí)水 三級(jí)水 　　
        1級(jí)水>10MΩ；2級(jí)水>1MΩ；3級(jí)水>0.2MΩ 　　
        PH值范圍（25℃） - - - - 5.0-7.5 　　
        比電阻MΩ.cm@25℃> 10 1 0.2 　　
        電導(dǎo)率（25℃）us/cm≤ 0.1 1 5 　　
        可氧化物[以O(shè)計(jì)]mg/L -- 0.08 0.40 　　
        吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 -- 　　
        二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 -- 　　
       蒸發(fā)殘?jiān)╩g/L） -- 1.0 2.0
圖1

圖2