電子廠反滲透純水設(shè)備*

反滲透設(shè)備是一種借助于選擇透過（半透過）性膜的工力能以壓力為推動力的膜分離技術(shù)，當系統(tǒng)中所加的壓力大于進水溶液滲透壓時，水分子不斷地透過膜，經(jīng)過產(chǎn)水流道流入中心管，然后在一端流出水中的雜質(zhì)，如離子、有機物、細菌、病毒等，被截留在膜的進水側(cè)，然后在濃水出水端流出，從而達到分離凈化目的。
反滲透設(shè)備主要工藝流程　　
    1．原水罐 （可選）儲存原水，用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質(zhì)。同時緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對水處理系統(tǒng)造成的沖擊。（如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應(yīng)）。 　　
    2．原水泵 　　恒定系統(tǒng)供水壓力，穩(wěn)定供水量。 　　
    3．多介質(zhì)過濾器 　　采用多次過濾層的過濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物等顆粒在20um以上的物質(zhì)，可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量，延長設(shè)備的使用壽命。 　　
    4．活性炭過濾器 　　系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器，活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子，還可進行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使*耗氧量（COD）由15mg/L(O2)降至2～7mg/L(O2)，此外，由于吸附作用使表面被吸附復(fù)制的濃度增加，因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及農(nóng)yao污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物?？蛇x用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量，延長設(shè)備的使用壽命。同時，設(shè)備具有自我維護系統(tǒng)，運行費用很低。 　　
    5．離子軟化系統(tǒng)/加藥系統(tǒng) 　　R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置zui后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4, SrSO4, SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結(jié)晶析出,損壞膜原件的應(yīng)有特性 ,在進入反滲透膜組件之前,應(yīng)使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽, SiO2,硫酸鹽的晶體析出. 　　
    6．精密過濾器 　　采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除，使RO系統(tǒng)等后續(xù)設(shè)備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止其進入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。 　　
   7．反滲透系統(tǒng) 　　反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。 反滲透法能適應(yīng)各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運行穩(wěn)定，占地面積小，操作簡便，反滲透設(shè)備在除鹽的同時，也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。 　　
   8．臭氧殺菌器/紫外線殺菌器（可選） 　　殺滅由二次污染產(chǎn)生的細菌*保證成品水的衛(wèi)生指標.
反滲透設(shè)備主要用途　　
    1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水； 　　
    2、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水； 　　
    3、制取醫(yī)藥工業(yè)所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等； 　　
    4、制取飲料（含酒類）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水； 　
  　5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水； 　
  　6、制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水；汽車、家用電器、建材產(chǎn)品 　　表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水； 　
  　7、石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水；化學(xué)藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純?水； 　　8、賓館、樓宇、社區(qū)機房產(chǎn)物業(yè)的優(yōu)質(zhì)供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化； 　　
    9、線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用；
　　10、生活、醫(yī)院、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理；
反滲透設(shè)備的清洗方法　　電子廠反滲透純水設(shè)備*
    反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問題可能使許多技術(shù)力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設(shè)備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴重的問題。
  　1.低壓沖洗反滲透設(shè)備 　　定期對反滲透設(shè)備進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設(shè)備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應(yīng)進行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開機。 　　
    2.反滲透設(shè)備停運保護 　　由于生產(chǎn)的波動，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運，短期或*停用時必須采取保護措施，不適當?shù)靥幚頃?dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。 　　
    短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì)，有大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進出口閥門。 　　
    *停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為甲醛10(質(zhì)量分數(shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分數(shù))。 　　
    3.反滲透膜化學(xué)清洗 　　在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學(xué)清洗。 　　一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運行水平，是否需要改進預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。
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