蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 晶圓清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染及氧化層等污染物，確保后續(xù)制程的良率與可靠性。其技術(shù)涵蓋濕法化學(xué)清洗（如硫酸/...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 去膠清洗機(jī)是半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域關(guān)鍵設(shè)備，用于去除光刻膠、聚合物等殘留物。其技術(shù)涵蓋化學(xué)濕法清洗（如硫酸/雙氧水配方）、超聲波空化剝離及等離子干法去膠，可針對(duì)晶圓...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 片盒清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于清潔晶圓承載盒（如FOUP）的專用設(shè)備，旨在去除片盒表面的顆粒、有機(jī)物及工藝殘留物，確保晶圓傳輸過程中的潔凈度。其核心功能包括自動(dòng)化...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： BOE濕法清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)濕法工藝實(shí)現(xiàn)高效潔凈處理。廣泛應(yīng)用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體爐管清洗機(jī)是用于去除石英/陶瓷爐管表面化學(xué)殘留、顆粒及氧化層的專用設(shè)備，核心目標(biāo)為恢復(fù)爐管潔凈度以保證擴(kuò)散、氧化等工藝的穩(wěn)定性。其采用高純度去離子水（DI...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 芯片清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面顆粒、有機(jī)物及化學(xué)殘留的關(guān)鍵設(shè)備，確保納米級(jí)潔凈度（Class 10級(jí)）。采用高純度去離子水（DI水，電阻率≥18.2M...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 最終清洗機(jī)是半導(dǎo)體制程中確保晶圓/爐管表面納米級(jí)潔凈的關(guān)鍵設(shè)備，專為去除化學(xué)殘留、顆粒及有機(jī)物設(shè)計(jì)。采用高純度去離子水配合兆聲波震蕩，實(shí)現(xiàn)無損傷清洗；集成離心干...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 槽式清洗機(jī)是一種用于批量清洗物品的自動(dòng)化設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)等領(lǐng)域。它通過將待清洗物品放入盛有特定化學(xué)試劑的槽中，利用超聲波在液體中的空化作用產(chǎn)生...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-13 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)BOE蝕刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓氧化層（如SiO?）的關(guān)鍵設(shè)備，通過氫氟酸（HF）與氟化銨（NH?F）混合液（Buffered Oxide Etch...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： SPM腐蝕清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中去除晶圓表面有機(jī)物及金屬污染的核心設(shè)備，通過硫酸與雙氧水混合液（SPM）的強(qiáng)氧化性實(shí)現(xiàn)高效腐蝕清洗。其關(guān)鍵功能包括光刻膠剝離、金屬...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 單晶圓濕法清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面清潔的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)溶液（如SC-1、DHF等）結(jié)合兆聲波、超聲波等物理技術(shù)，高效去除有機(jī)物、金屬污染及顆粒殘...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬殘留），確保高精度工藝良率。其核心采用濕法化學(xué)清洗（如RCA工藝）結(jié)合兆聲波...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 單晶圓濕法清洗設(shè)備，專為高精度芯片制造設(shè)計(jì)。它采用濕法工藝，能精準(zhǔn)去除晶圓表面雜質(zhì)與污染物。具備高清洗均勻性，確保晶圓各區(qū)域潔凈度一致。自動(dòng)化程度高，操作便捷，...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓單片清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面污染物（顆粒、有機(jī)物、金屬離子等）去除的高精密設(shè)備，通過逐片獨(dú)立處理避免交叉污染，適用于制程節(jié)點(diǎn)。其核心技術(shù)包括伯努...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-08 在線留言
詳細(xì)摘要： Wafer清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物（顆粒、有機(jī)物、金屬雜質(zhì)等）的關(guān)鍵設(shè)備，通過物理、化學(xué)或機(jī)械原理實(shí)現(xiàn)高潔凈度清洗。其主要技術(shù)包括超聲波清洗（...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-08 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體濕法設(shè)備是晶圓制造、封裝及器件加工中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過化學(xué)腐蝕、電化學(xué)處理、超聲波空化、流體沖洗等技術(shù)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)潔凈度與微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控。其核心在于精準(zhǔn)控...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-07 在線留言
詳細(xì)摘要： 邊拋后清洗機(jī)是半導(dǎo)體、光學(xué)及精密制造關(guān)鍵設(shè)備，通過濕/干法去除拋光殘留。核心流程含化學(xué)去氧化、兆聲波剝離、超純水沖洗及真空干燥，在Class 10環(huán)境下完成。支...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-07 在線留言
詳細(xì)摘要： SPM全自動(dòng)超聲清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于高效清潔精密部件的關(guān)鍵設(shè)備，通過超聲波空化效應(yīng)結(jié)合化學(xué)溶劑（如硫酸、過氧化氫等）去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金屬...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： EPI零部件清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于清潔外延生長設(shè)備關(guān)鍵部件的專用設(shè)備。其通過超聲波、化學(xué)或等離子清洗技術(shù)，高效去除零部件表面的微粒、金屬污染及殘留物，確保外延...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)光罩清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學(xué)清洗或等離子體技術(shù)，精準(zhǔn)清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質(zhì)，確保光罩圖...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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