感應耦合等離子體刻蝕機（ICP）

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參考價:￥10 - ￥280 /臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號
DISC-ICP-601/801/1201/
品牌
其他品牌
廠商性質(zhì)
生產(chǎn)商
所在地
北京市

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更新時間：2024-04-09 09:53:25瀏覽次數(shù)：681次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  刻蝕設備

離子束刻蝕

反應離子刻蝕

感應耦合等離刻蝕

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  其他品牌

北京中科復華科技有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：12條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：陳經(jīng)理（銷售經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	國產(chǎn)

感應耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線，通過感應耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體，同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓，射頻偏壓作用下，等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表面進行物理轟擊，并與材料表面發(fā)生化學反應，達到對樣品進行刻蝕的目的。

　　本系統(tǒng)具有ICP和RIE兩種刻蝕功能，既可以進行細線條(納米)加工，也可以進行高深寬比的體加工?？煽涛g的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、

詳細介紹

應用方向：科研與教學

產(chǎn)品優(yōu)勢：耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)

★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或高真空系統(tǒng)。雙片裝，樣品自動運送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺：可升降，包含水冷

★電源配置：上電射頻，下電偏壓，包含自動匹配