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射頻磁控鍍膜機

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更新時間：2024-02-08 13:16:46瀏覽次數(shù)：156次

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寧波鴻宇真空科技有限公司

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產品簡介

射頻磁控鍍膜機磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術融合一體的，可適應廣泛鍍膜靶材，無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜，使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點?？梢藻兘饘倌ぃ€可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。全SUS304優(yōu)質不銹鋼機身，隱......

詳細介紹

設備參數(shù)

型號	HY-1214	HY-1416	HY-1618
真空室尺寸	?1200*1400mm	?1400*1600mm	?1600*1800mm
真空室結構	立式單開門
鍍膜方式	離子配偏壓技術
極限真空	8.0*10-4Pa (空載)
抽氣時間	空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘
焊材類型	鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶，各種中頻靶、直流靶等
鍍膜顏色	半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等
控制方式	全自動，半自動，手動 PLC觸摸屏控制
特殊要求	按客戶特殊工藝要求定制