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北京艾博智業(yè)離子技術(shù)有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號GVC-2200
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時間：2023-10-22 11:21:04瀏覽次數(shù)：161次
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1.技術(shù)參數(shù)：
輸入電壓 | AC220V±10%，50Hz |
工作電壓 | DC2400V |
功率（主機與機械泵） | 500W |
| 工作原理 | 磁控濺射 |
可選靶材 | 金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬 |
真空泵 | 兩級直聯(lián)旋片式真空泵 1L/s |
真空腔 | φ128×130mm |
樣品杯 | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
整機尺寸（長×寬×高） | 424×271×255（mm） |
重量（主機） | 11 kg |
工作環(huán)境 | 溫度 5～40℃，濕度<60% |
存儲環(huán)境 | 溫度-10~60℃，濕度<80% |
工作氣體 | Air / Ar |
保護功能 | 過流、真空雙保護 |
2.效果圖：
2.1 陶瓷濾膜鉑靶10萬倍（ SU5500 ）：
2.2 噴金樣品電鏡觀測圖對比
GVC-2200: 樣品形貌真實完整：
其他設備噴金的效果圖（熱損傷嚴重）：
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