MATRIX-F 是一款專用 FT-NIR過程光譜儀，經(jīng)得任何考驗。儀器使用的光譜技術(shù)，在緊湊的模塊系統(tǒng)中實現(xiàn)出色的靈敏性和穩(wěn)定性。其創(chuàng)新設計提供始終如一的高質(zhì)量檢測結(jié)果，并節(jié)約停機時間，模型直接傳遞，在新應用中并不會降低靈敏度和精度。支持工業(yè)標準通信協(xié)議，確保輕松集成。MATRIX-F 可安裝在實驗室作為一立式系統(tǒng)，開發(fā)合適的方法，并可直接轉(zhuǎn)到您的過程應用分析。使用NEMA 4/I......

詳細介紹

傅立葉近紅外分析技術(shù)的實時在線監(jiān)控的優(yōu)勢已。然而，傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且，測量點有時很難接近，甚至是防爆等危險區(qū)。

通過利用光纖技術(shù)，MATRIX-F 主機可與實測點相距數(shù)百米，將探頭直接安裝在采樣點，大大簡化了工業(yè)現(xiàn)場測試的難度。此外，當環(huán)境特別惡劣時可將主機置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi)，這樣可以消除溫度影響，進一步優(yōu)化光譜儀的性能，還可以保護 MATRIX-F，防止其遭受過度污垢和灰塵。

常見的過程控制包括監(jiān)測化學反應以及中間產(chǎn)品和成品的質(zhì)量：

直接監(jiān)測生產(chǎn)反應器和管道中樣品
遠距離測量
加深過程理解和控制
用于測定不同行業(yè)混合過程均勻性、化學品組分濃度和聚合過程狀態(tài)的理想工具

MATRIX-F 是目前的只用一臺儀器就可對物料進行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用：

光纖探頭：可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷
非接觸式測量的發(fā)射探頭：非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進行遠程非接觸式測量，實現(xiàn)一系列全新應用。它可以提供多達六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F duple。

關(guān)鍵詞：光譜儀

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