INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

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產(chǎn)品型號INF450-LP-WM

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更新時間：2025-06-12 12:21:30瀏覽次數(shù)：44次

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  激光干涉儀

平面干涉儀

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成都太科光電技術(shù)有限責(zé)任公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：19條

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聯(lián)系人：姚志順

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產(chǎn)品簡介

INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀產(chǎn)品型號：INF450-LP-WM成像質(zhì)量良好，結(jié)構(gòu)簡潔臥式結(jié)構(gòu)，雙端口測量操作方便，使用簡單波長調(diào)諧相移解相分析系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

用途
技術(shù)參數(shù)

1、雙端口檢測；
2、大口徑元件面形檢測；
3、測量光學(xué)元件的材料均勻性；
4、平行平板元件多表面測試；
5、元件面形分析，光學(xué)數(shù)據(jù)處理。

序號	指標(biāo)名稱	指標(biāo)參數(shù)
1	測試結(jié)構(gòu)	臥式雙端口；
2	測試口徑	大端口：有效口徑≥φ450mm；小端口：有效口徑≥φ100mm；
3	相移方式	QPS波長調(diào)諧相移或機(jī)械相移解相；
4	測試光源	波長調(diào)諧相干光源，λ=632.8nm，相干長度≥100m；可選氦氖相干光源，λ=632.8nm（用于機(jī)械相移）
5	CCD指標(biāo)	可選分辨率≥1.2K×1.2K，或分辨率≥2.3K×2.3K，或分辨率≥3.4K×3.4K；
6	φ800mm標(biāo)準(zhǔn)楔形鏡（TF鏡）	標(biāo)準(zhǔn)面面形：PVr優(yōu)于λ/20，中頻誤差PSD1小于0.9nm，進(jìn)口熔石英材料；
7	φ800mm標(biāo)準(zhǔn)反射鏡（RF鏡）	標(biāo)準(zhǔn)反射面面形：PVr優(yōu)于λ/20，中頻誤差PSD1小于0.9nm，進(jìn)口微晶材料；
8	系統(tǒng)傳遞函數(shù)	ITF ≥ 0.7 @ 0.4 mm^-1（φ450mm大端口系統(tǒng)）；
9	系統(tǒng)精度	系統(tǒng)精度：系統(tǒng)空腔精度PVr優(yōu)于λ/15，中頻誤差PSD1小于0.9nm（φ800mm有效口徑內(nèi)）；
10	系統(tǒng)重復(fù)性精度	系統(tǒng)重復(fù)性精度：系統(tǒng)RMS重復(fù)性優(yōu)于λ/2000（2σ）；
11	調(diào)焦范圍	調(diào)焦范圍：光瞳調(diào)焦范圍≥±2m；
12	ZOOM變焦	1-6X光學(xué)變焦（1.2K）或1X光學(xué)變焦，50X數(shù)字變焦(2.3K/3.4K)；
13	測試對準(zhǔn)方式與角度	測試對準(zhǔn)方式與角度：快對準(zhǔn)與精密對準(zhǔn)方式，對準(zhǔn)角度≥±15°/±3°；
14	波長調(diào)諧相移分析軟件	輸出峰谷值（PV）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（RMS）、等高圖、X-Y剖面圖、三維立體圖、干涉條紋圖、MTF(光學(xué)傳遞函數(shù))、PSF(點擴(kuò)散函數(shù))，澤爾尼科多項式分析、賽德爾相差分析等；分析軟件可進(jìn)行矩形、橢圓、正方形、圓、多邊形等數(shù)據(jù)分析功能；平行平板類元件測試功能（樣品無需特殊處理），一次干涉條紋數(shù)據(jù)采集可同時得到，平行平板前表面面形、后表面面形，光學(xué)厚度變化；具有材料均勻性測試分析功能；
15	標(biāo)準(zhǔn)反射鏡支撐調(diào)節(jié)	二維手動與電控角度調(diào)節(jié)，整體結(jié)構(gòu)氣浮大范圍移動；
16	測試工裝	兩維角度調(diào)節(jié)，一維平移調(diào)節(jié)，大范圍氣浮調(diào)節(jié)；
17	氣浮隔振平臺	隔振平臺，尺寸≤3800mm×1500mm

關(guān)鍵詞：數(shù)據(jù)采集

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