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橢偏儀應(yīng)用

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橢偏儀應(yīng)用光譜橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)特性的光學(xué)測(cè)量設(shè)備

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橢偏儀應(yīng)用

光譜橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)特性的光學(xué)測(cè)量設(shè)備?？蓽y(cè)的樣品包括大塊材料、薄膜以及在平面基底上生長(zhǎng)或沉積的多層結(jié)構(gòu)。多層固體、液體、與固體相鄰的液體以及與固體接觸的氣相等離子體的特性等都可以用這一技術(shù)來(lái)探測(cè)。由于與樣品非接觸，對(duì)樣品沒(méi)有破壞并且不需要真空，使得橢偏儀成為一種吸引力的探測(cè)設(shè)備。
     許多材料的特性都可以用橢偏儀來(lái)探測(cè)。的是用來(lái)測(cè)量薄膜的厚度。還可以用來(lái)探測(cè)薄膜或大塊材料的光學(xué)常數(shù)。同時(shí)，還能夠測(cè)量其他材料的屬性，包括表面和界面的粗糙度、結(jié)晶度、金屬和雜質(zhì)濃度、光學(xué)各向異性以及其他影響材料光學(xué)常數(shù)的特性。
橢偏儀通常應(yīng)用于有薄膜存在的地方。其應(yīng)用包括光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、聚合物、光刻材料、平面平板顯示、計(jì)算機(jī)讀寫頭以及半導(dǎo)體集成電路制造的研究開(kāi)發(fā)。另外，在生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)及基礎(chǔ)材料研究等方面也有應(yīng)用。

基本應(yīng)用：?jiǎn)?、多薄膜折射率及膜厚測(cè)量，塊才的折射率測(cè)量；相位延遲測(cè)量
  擴(kuò)展應(yīng)用：表面粗糙，界面混合、組分比、結(jié)晶度、折射率梯度分布、光學(xué)各項(xiàng)異性、帶隙研究…
  應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示、存儲(chǔ)、生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、減反膜、透明導(dǎo)電膜、聚合物膜、自組裝膜、光刻材料…
  特點(diǎn)：非接觸測(cè)量；小于1nm的膜也能被準(zhǔn)確測(cè)量

關(guān)鍵詞：橢偏儀

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