具體應(yīng)用于：
（1）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應(yīng)機理研究；
（2）電化學(xué)分析研究，包括：氧還原研究（ORR）、氧析出研究（OER）、氫析出（HER）、二氧化碳還原等；
（3）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、*功能材料以及傳感器的性能研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價。
CS2350H除了具備單通道工作站的所有特點，還可用于電化學(xué)分析四電極工作體系，尤其在氧還原（ORR）中間產(chǎn)物收集、金屬中氫擴散測試有著廣泛的運用。
典型應(yīng)用
配合旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極（RRDE）用于研究氧化還原體系
在測量圓盤電極極化曲線的同時，將環(huán)電壓設(shè)置為恒電位，控制圓環(huán)電極在固定的極化電勢，用以檢測圓盤電極上產(chǎn)生的反應(yīng)中間物，該方法也成為檢測反應(yīng)中間物和研究電極反應(yīng)機理的典型流體動力學(xué)方法。氧還原反應(yīng)的電子轉(zhuǎn)移數(shù)和相應(yīng)的雙氧水（中間產(chǎn)物）產(chǎn)率可分別通過公式測得：
-
其中知Idisk和Iring分別為測得的盤電流和環(huán)電流，電極收集效率N由盤環(huán)電極參數(shù)決定（常數(shù)）。將測試結(jié)果代入以上公式即可求得實際反應(yīng)的電子轉(zhuǎn)移數(shù)n和H2O2（%）所占比例。
圖1. 氧還原（ORR）中間產(chǎn)物檢測
金屬中氫擴散測試 
圖2. 金屬中氫擴散控制
兩個恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski雙電解池，通過左側(cè)電解池的陰極充氫和右側(cè)電解的氫原子陽極氧化電流測量，進而計算氫原子在金屬中擴散系數(shù)和氫通量。
圖2. 金屬中氫擴散控制
