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更新時(shí)間：2023-12-15 11:58:42瀏覽次數(shù)：161次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線倍增級(jí)磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級(jí)表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對(duì)光電倍增管的倍增級(jí)基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測(cè)試等功能，可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)，能夠?qū)崟r(shí)顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù)，達(dá)到精確控制膜厚和沉積均勻性的要求。
倍增級(jí)磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級(jí)表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對(duì)光電倍增管的倍增級(jí)基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測(cè)試等功能，可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)，能夠?qū)崟r(shí)顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù)，達(dá)到精確控制膜厚和沉積均勻性的要求。
性能參數(shù)：
1)、磁控靶沉積單金屬銻;
2)、腔體內(nèi)腔尺寸：Φ600x420;
3)、具備偏壓清洗及輔助沉積功能;
4)、極限真空;5.0x10-5Pa(從常溫、氮?dú)馄普婵諣顟B(tài)下抽限真空度時(shí)長≤4小時(shí));
5)、工作真空度：工作腔體真空度優(yōu)于2.0×10-2Pa(腔體加熱至300℃狀態(tài)下抽至工作真空度時(shí)長≤0.5小時(shí));
6)、烘烤溫度max 300℃，常溫狀態(tài)升溫至300℃時(shí)長≤20分鐘，溫度測(cè)試精度≤±2℃。
7)、工件架：運(yùn)行平穩(wěn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)0.5-5rpm;
8)、產(chǎn)能約700件/日;
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