污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所
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更新時(shí)間:2022-09-26 10:49:09瀏覽次數(shù):157次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線應(yīng)用領(lǐng)域DS-801A/D自動(dòng)分選機(jī)是IC生產(chǎn)過(guò)程中用于將表面質(zhì)量的管芯從藍(lán)膜拾取,并放置到晶粒盒里的一種自動(dòng)化設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 DS-801A/D自動(dòng)分選機(jī)是IC生產(chǎn)過(guò)程中用于將表面質(zhì)量的管芯從藍(lán)膜拾取,并放置到晶粒盒里的一種自動(dòng)化設(shè)備??蛇m用多種尺寸的管芯和多種規(guī)格的晶粒盒(Tray盤和JEDECK盤),并實(shí)現(xiàn)了藍(lán)膜到藍(lán)膜等多種工藝流程。 本機(jī)有著合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及良好的操作性、穩(wěn)定性、高可靠性。雙工作臺(tái)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)晶粒盒上下料時(shí)設(shè)備不停機(jī)。 |
技術(shù)特點(diǎn)
◎適用于8″及以下晶圓加工;
◎可輸出至2″~4″規(guī)格的晶粒盒(Tray盤);
◎可選單頂針與多頂針模塊,并支持快速更換;
◎支持自動(dòng)擴(kuò)膜功能,擴(kuò)膜行程可控;
◎軟件系統(tǒng)功能強(qiáng)大,運(yùn)行可靠,支持MAP圖功能;
◎高效視覺檢測(cè)系統(tǒng),可進(jìn)行芯片識(shí)別定位及表面缺陷檢測(cè);
◎支持分類拾揀功能;
◎雙工作臺(tái)實(shí)現(xiàn)收料不停機(jī)。
◎大尺寸JEDECK盤,或到藍(lán)膜等其它有特殊要求的治具上
循環(huán)時(shí)間 | ≥300ms (2mm以下芯片、包括PR時(shí)間) | 拾取機(jī)構(gòu) | 吸 頭 | 表面拾取型 | |
放片精度 | ±50μm (XY定位) ±5° (θ) |
| 拾取臂 | 180°旋轉(zhuǎn)拾取臂 | |
芯片尺寸 | □0.5×0.5~10×10mm □2×2~5×15mm(可選) □5×5~5×25mm(可選) | 頂針Z向行程 | 2mm(max.)支持單針/多針(4針) | ||
晶片臺(tái) (輸入) | Wafer尺寸 | ≤8″ | 工作臺(tái) (輸出) | 承載臺(tái)數(shù)量 | □單(A) □雙(D) |
| 承載金屬環(huán) | □8″(標(biāo)準(zhǔn)) □6″(可選) |
| 有效行程 | 130×300 mm |
| 行程 | 200×200 mm |
| 重復(fù)精度 | ±0.005mm/0.2mm |
| 重復(fù)精度 | ±0.005mm/0.2mm |
| Tray盤規(guī)格 | 2″/3″(可選)/4″(可選) |
| 擴(kuò)晶功能 | 自動(dòng)擴(kuò)晶 |
| 料盤夾持形式 | 機(jī)械(標(biāo)準(zhǔn))/真空(可選) |
操作系統(tǒng) | Windows XP | 操作方式 | 鼠標(biāo)、鍵盤、操作手柄、按鈕 | ||
設(shè)備尺寸 | 1400(W)×1200(D)×1700(H) mm | 所需電源 | 220V±10% | ||
設(shè)備重量 | 900Kg±10% | 所需氣壓 | ≥0.5Mpa | ||
設(shè)
備
功
能 | 1.芯片識(shí)別對(duì)準(zhǔn)與墨點(diǎn)(大于芯片面積的20%)識(shí)別功能; 2.包裝盒(Tray盤)識(shí)別與對(duì)準(zhǔn)功能; 3.丟片檢測(cè)與提醒功能; 4.Mapping功能; 5.分Bin功能 6.可兼容6″劃切金屬環(huán) |
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