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昆山熙日機(jī)械設(shè)備有限公司
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更新時間：2022-11-13 13:03:32瀏覽次數(shù)：283次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線STPMaglev真空分子渦輪泵愛德華edwardsSTPMaglev真空分子渦輪泵STP-iX455渦輪分子泵為了實現(xiàn)始終如一的可靠性能和零維護(hù)，您每次都可以依賴于Edwards的STPMaglev渦輪分子泵來實現(xiàn)
為了實現(xiàn)始終如一的可靠性能 和零維護(hù)，您每次都可以依賴于 Edwards 的 STP Maglev 渦輪分子泵 來實現(xiàn)。
我們的套 STP Maglev 渦輪分子泵于 1983 年售出，現(xiàn)在已經(jīng)在世界各地 安裝了 130,000 多套。其中的 85% 都運(yùn)行于半導(dǎo)體制程工具中， 表現(xiàn)出了的性能級別和可靠性。
對于需要長時間正常運(yùn)行、無碳?xì)?化合物泵送、維護(hù)量少和低振動的應(yīng)用， STP Maglev 渦輪分子泵是泵。轉(zhuǎn)子通過磁力軸承實現(xiàn) 懸浮，因此，消除了轉(zhuǎn)子與泵其余部分之間的 所有接觸。除振動極低之外，消除接觸 還意味著轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)時 不會發(fā)生軸承接觸，也就無需對泵進(jìn)行后續(xù) 維護(hù)。
產(chǎn)品開發(fā)的每個設(shè)計階段均 融合了節(jié)能技術(shù)，以確保降低 能耗和提升運(yùn)行效率，同時不損害 質(zhì)量和性能。
提高了生產(chǎn)效率：
更快抽空到基準(zhǔn)壓力
體積緊湊：
節(jié)省空間并且易于安裝
低擁有 成本：
低功耗和水電消耗
免維護(hù)：
經(jīng)濟(jì)
平板顯示器
我們豐富多樣的 STP Maglev 渦輪分子泵旨在Z大限度地提高基板吞吐量和Z終零濕度制程條件，同時盡可能降低功耗、占地面積和重量。
LED
我們的 STP Maglev 渦輪分子泵產(chǎn)品系列是適用于大容量高流速應(yīng)用的“一體化"低功耗緊湊型解決方案。
光電
我們的 STP Maglev 渦輪分子泵已進(jìn)行優(yōu)化，可滿足客戶的特定應(yīng)用要求，同時具有的制程氣體處理能力、始終如一的性能的Z高可靠性。
半導(dǎo)體加工
磁懸浮轉(zhuǎn)子經(jīng)過專門設(shè)計，降低了艙室污染并延長了維修間隔，使得 STP Maglev 渦輪分子泵成為您的制程工具的可靠之選。
*的 高吞吐量系列
全新的“優(yōu)勢"系列 磁懸浮渦輪泵經(jīng)過專門設(shè)計，可提供下一代 半導(dǎo)體蝕刻和 CVD 制程所需的Z高吞吐量 級別。它們是以超可靠、高性能 H 系列產(chǎn)品 為基礎(chǔ)，通過持續(xù)改進(jìn)技術(shù)開發(fā)而成。 其*的轉(zhuǎn)子技術(shù)和 3D 葉片設(shè)計與一系列可供選擇的 Z佳材料相結(jié)合，因而能夠在與現(xiàn)有的許多型號相同的 占用空間內(nèi)創(chuàng)造出下一代高吞吐量渦輪泵。 該系列包含的泵具有 300 l/s 到 4500 l/s 的生產(chǎn)效率， 吞吐量高達(dá) 6 slm，并具有更高的 H2、N2 和 Ar 性能。
集成的控制器和電源
這是真正的一體化渦輪泵 解決方案，具有出色的特性并可實現(xiàn)節(jié)省。 集成的控制器不再需要非集成控制器 通常所需的連接電纜和機(jī)架，有助于減小 占地面積，節(jié)省寶貴的工廠用地以及安裝時間和 成本。此外，板載控制器包含一個小型電源， 與現(xiàn)有產(chǎn)品相比，它可在高氣體流量下實現(xiàn) 大約 32% 的能耗降低。此系列產(chǎn)品的生產(chǎn)效率 為 300 l/s 到 4500 l/s，這意味著它是許多制程和應(yīng)用的 理想選擇。
超 高真空
超高真空系列 磁懸浮渦輪分子泵是供許多半導(dǎo)體、表面科學(xué) 或高能物理領(lǐng)域使用的泵。這種泵 具有的可靠性、性能、清潔程度以及的 低振動級別。這些泵全部是直流供電，無需使用 電池，采用一個具有自動調(diào)節(jié)和*診斷功能的 半機(jī)架控制器。該系列中泵的速度范圍為 300 l/s 到 1000 l/s，極限壓力小于 10-10 mbar（CF 法蘭），另外 還有一個用于嚴(yán)苛制程的“C"型。
超 高真空低振動系列
超高真空低振動 型包含超高真空渦輪分子泵的所有特性， 另外還有一個內(nèi)置隔振器，可提供超低振動 性能。
此泵的氮氣抽速為 450 ls-1。STP-iX455 極為適合電子顯微鏡、度量學(xué)、光刻和其他對振動敏感的應(yīng)用。
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
緊湊型設(shè)計，包括集成的控制器
創(chuàng)新性自傳感軸承系統(tǒng)
數(shù)字化 5 軸控制
與現(xiàn)有渦輪泵相比振動級別降低了 50%
可以配置為運(yùn)行腐蝕性制程
自動平衡系統(tǒng) (ABS) 標(biāo)準(zhǔn)
自動減振 (AVR) 標(biāo)準(zhǔn)
列于 UL 中，具有 CE 標(biāo)記，符合 SEMI® S2
| 入口法蘭 | ISO100K |
| 抽速 | |
| N2 | 300 ls-1 |
| H2 | 300 ls-1 |
| 壓縮比 | |
| N2 | >108 |
| H2 | >1 x 104 |
| 極限壓力 | 6.5 x 10-6 Pa |
| Z大工作壓力 | 1.3 x 10-1 Pa |
| 允許的前級壓力 | 67 Pa |
| 額定速度 | 55000 rpm |
| 啟動時間 | <6 分鐘 |
| 固定位置 | 任何方向 |
| 冷卻方法 | 自然冷卻（加熱和氣體泵送時進(jìn)行水冷卻或空氣冷卻） |
| 潤滑油 | 不需要 |
| 前級泵 | 240 lmin-1 |
| 泄露磁通量 | |
| 軸向方向 | <100 m/Gauss |
| 徑向方向 | <100 m/Gauss |
| 環(huán)境溫度范圍 | 0 至 40 °C |
| 存儲溫度范圍 | -25 至 55 °C |
| 重量 | 15 kg |
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