超細微粒，特別是納米級粒子的研制，在當前的*中已形成為一個熱門領域，在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫(yī)學領域得到廣泛應用。
一、概述
SFEW-3型超臨界納米粒子制備裝置利用超臨界流體制備細微粒子這一技術，可以進行顆粒、微球、微膠囊、多孔材料、脂質(zhì)體及其它微細材料的加工和制備。超細粒子的制備有多種方法，超臨界流體沉積技術作為一種*，能夠更準確的控制結晶過程，能夠生產(chǎn)出平均粒徑很小的細微粒子，而且還可控制其粒度尺寸的分布。

二、制備工藝

RESS（超臨界溶液快速膨脹）法和GAS（氣體抗溶劑結晶）法，由GAS法派生而來的過程有SAS、ASES（PCA）、SEDS等。RESS法制備超細微粒利用了溶質(zhì)的溶解度隨SCF(超臨界流體)密度變化的關系，當從超臨界流體狀態(tài)迅速膨脹到低壓、低溫的氣體狀態(tài)，溶質(zhì)的溶解度急劇下降，這個轉(zhuǎn)變使溶質(zhì)迅速成核和生長成為微粒而沉積。
GAS法主要原理：當高壓氣體溶入含有溶質(zhì)的溶液相內(nèi)，使其中的溶劑發(fā)生膨脹，于是降低了溶質(zhì)在其中的溶解度，導致該溶質(zhì)的結晶析出。
ASES過程與GAS過程不同之處：在ASES過程中顆粒形成與干燥同時進行，形成的顆粒中殘余的有機溶劑含量少。而GAS過程的結晶沉淀過程都是在液相中發(fā)生的，需要經(jīng)過長時間的洗滌操作才能得到干燥的固體顆粒。SEDS過程（超臨界流體強化溶液分散的沉淀過程）是將超臨界CO2、含有溶質(zhì)的水溶液和有機溶劑一起噴入結晶器，并經(jīng)短暫的接觸和混合過程。
超臨界流體沉積技術應用有以下兩種：RESS（超臨界溶液快速膨脹）法和GAS（氣體抗溶劑結晶）法。本裝置主要采用RESS（超臨界溶液快速膨脹）法，但可兼顧GAS（氣體抗溶劑結晶）法。

二、主要技術參數(shù)：

1、超臨界形成釜及可視結晶器工作壓力：30MPa。

2、工作溫度：室溫-85℃

3、結晶器容積1000mL

4、超臨界形成釜容積：1000mL

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