DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn),可制備納米級(jí)和微米級(jí)的單層及多層工能膜-各種硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī)為前開門式設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定，重復(fù)性好，操作簡(jiǎn)便。DH500JJC磁控濺射鍍膜機(jī).DH500JJC磁控濺射鍍膜機(jī).DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī).多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn)，可制備納米級(jí)和微米級(jí)的單層及多層工能膜-各種硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機(jī)為前開門式設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定，重復(fù)性好，操作簡(jiǎn)便。真空室材料均采用優(yōu)良材質(zhì)SUS304不繡鋼材料制造，工藝規(guī)范，精致，保證了材料的成膜純度。
采用分子泵+直聯(lián)機(jī)械泵機(jī)組，具有抽速快，無(wú)油，操作方便快捷，易于維護(hù)的特點(diǎn)。
◆ 鍍膜方式：可實(shí)現(xiàn)多靶共濺模式
◆ 磁控靶：圓柱/平面靶；
◆ 進(jìn)氣系統(tǒng)：三路質(zhì)量流量計(jì)；
◆ 鍍膜室體積：500×500×600mm3
◆ 極限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復(fù)真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
◆ 真空抽氣系統(tǒng)：機(jī)械泵與分子泵組成；
◆ 真空測(cè)量系統(tǒng)：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
◆ 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
◆ 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；
◆ 選配件：石英晶振測(cè)厚儀，冷卻水機(jī)組等；
◆ 供電電源：三相AC380V，50Hz
◆ 特殊規(guī)格可定制。
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