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當(dāng)前位置：上海爾迪儀器科技有限公司>>真空型>> 等離子清洗機 V 實驗室等離子清洗機
| 參 考 價: | 面議 |
使用等離子的表面處理裝置。著重于"使用簡單"的臺式高性能型號，調(diào)取數(shù)據(jù)簡單，以電子材料為中心，可對應(yīng)多種用途。
特征
● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
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TDK 高效便攜式手持等離子體發(fā)生器PZ3 羅茨風(fēng)機
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