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208HR高真空離子濺射儀

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產(chǎn)品簡介

208HR高分辨離子濺射儀適用于場發(fā)射掃描電鏡 208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案

詳細(xì)介紹

208HR高分辨離子濺射儀
適用于場發(fā)射掃描電鏡
208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
  • Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
  • Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
  • Ir：優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 精確的膜厚控制
· 樣品臺控制靈活：可對樣品臺進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
· 多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/b> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
· 寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
· 操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng)
鍍膜頭
低電壓平面磁控管
靶材更換快速
環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩
靶材調(diào)節(jié)遮擋
靶材
Cr, Pt/Pd (標(biāo)配)
Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir （選配）
鍍膜控制
微處理器控制
安全互鎖
電流控制與真空度無關(guān)
數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA）
樣品室大小
直徑150mm
高度165 - 250mm
樣品臺
非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)，并可手動(dòng)傾斜0-90°
轉(zhuǎn)動(dòng)速度可調(diào)
晶體頭
4個(gè)樣品臺
模擬計(jì)量
真空 Atm - .001mb
電流 0-100mA
控制方法
自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能
自動(dòng)處理排序
帶有“暫停”功能的數(shù)字計(jì)時(shí)器
自動(dòng)放氣
膜厚控制
MTM-20高分辨膜厚控制儀
真空系統(tǒng)
結(jié)構(gòu)
分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合，
代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配）
抽真空速度
0.1mb 下300 l/min
抽真空時(shí)間
1 mbar 至 1 x 10-3mbar
極限真空
1 x 10-5mbar
桌上型系統(tǒng)
旋葉泵置于抗震臺上，全金屬真空耦合系統(tǒng)
膜厚測控儀
MTM-20
基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復(fù)位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率
膜厚范圍
0.0 - 999.9nm
分辨率
優(yōu)于 0.1nm
密度范圍
0.50 - 30.00gm/cm3
修正系數(shù)范圍
0.25 - 8.00
鍍膜終止范圍
膜厚0 - 999.9nm
系統(tǒng)要求
電氣
100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz
功率
550VA（）
氬氣
最小純度99.995%
調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar)
6.0mm ID連接軟管

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