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一·淺望高頻熔樣機實驗室儀器設(shè)備設(shè)備用途：
    鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥、陶瓷耐火材料等行業(yè)，用于

礦石、巖石、土壤、耐火材料、冶金原料等樣品的XRF分析——玻璃

熔片制樣

二·淺望高頻熔樣機實驗室儀器設(shè)備設(shè)備特點：
1·  操作采用觸摸屏+PLC 控制器，一鍵啟動。
2·  熔化速度快，5~10分鐘完成試樣測試。

3· 可程序階梯式升溫（功率控制）并采用紅外測溫一鍵起停。

4·可根據(jù)不同樣品要求選擇不同溫度條件下熔煉樣品
5·產(chǎn)品結(jié)構(gòu)一體化設(shè)計。
6· 加熱腔體有排廢氣裝置，并配有可視觀察窗

7·設(shè)備安全保護： 設(shè)備加熱電源有過壓、過流、過熱、欠水等提示，保證設(shè)備使用安全。

三·設(shè)備參數(shù)：

1·  坩堝擺動角度：0~45度（可調(diào)節(jié)），坩堝擺動速率：0~30 轉(zhuǎn)/分（可調(diào)節(jié)）

2·坩堝自旋速度：0~20轉(zhuǎn)/分
3·  設(shè)備總功率：10Kw；電源電壓： AC220V/單相 50Hz
4·  設(shè)備使用溫度：室溫-1500℃ 最高1800℃（低溫采用白金坩堝，超過1500以上建議采用石墨坩堝）

5·控制方式:采用功率自動控制，紅外輔助溫度監(jiān)測。

6·加熱部件：可通過更換不同規(guī)格加熱線圈實現(xiàn)不同規(guī)格樣品熔融制作

7· 坩堝工位： 2工位（可一次熔2個樣品）

8·觸摸屏+plc控制，帶工藝存儲功能，工藝存儲≥20條）