環(huán)保在線
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品特點(diǎn)
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
等離子真空處理系統(tǒng)設(shè)備等離子體是氣體分子在真空、放電等腔體環(huán)境下產(chǎn)生的物質(zhì)。在密封真空腔體內(nèi)設(shè)定兩個(gè)電極活多個(gè)電極形成磁場(chǎng)，用來產(chǎn)生等離子清洗或者蝕刻需要的等離子體。產(chǎn)生磁場(chǎng)后，用真空泵調(diào)節(jié)到一定的真空值，當(dāng)氣體變得越來越稀薄時(shí)，分子間距和離子運(yùn)動(dòng)的間距也愈來愈長，遭受電磁場(chǎng)的作用，互相撞擊產(chǎn)生等離子體，與此同時(shí)產(chǎn)生輝光發(fā)亮。等離子體在磁場(chǎng)中空間不停運(yùn)動(dòng)，并對(duì)需要處理的物件表面開展離子轟擊活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)而做到清洗表面、蝕刻活化等效果。
很多材料在沒有經(jīng)過等離子表面處理系統(tǒng)狀況下是不能很好的進(jìn)行包裝印刷和粘合等工序。我們知道使用活躍的鈉堿性金屬能夠提升粘接工作能力，但這類方式并不易掌握控制，而且溶液是有害的。運(yùn)用等離子技術(shù)不但能夠保護(hù)生態(tài)環(huán)境，并且能夠做到更好的效果。等離子體構(gòu)造促使物體表層活性增大，在表層產(chǎn)生活性層可用于粘接、印刷等操作。
等離子處理對(duì)產(chǎn)品沒有損害，處理表面十分勻稱不會(huì)產(chǎn)生有害的物質(zhì)干凈環(huán)保，也可處理中空和有間隙的產(chǎn)品。等離子處理不用化學(xué)溶劑就可以對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行預(yù)處理；塑膠材料金屬或半導(dǎo)體等工藝都可適用；具有環(huán)保意義，占用的工作空間并不大，工程造價(jià)低。
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名稱（Name） | 真空式等離子處理系統(tǒng) |
型號(hào)（Model） | CRF-VPO-2L-S |
控制系統(tǒng)（Control system） | PLC+觸摸屏 |
電源（Power supply） | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
中頻電源功率（RF Power） | 1000W/40KHz |
容量（Volume ） | 10L(Option) |
層數(shù)（Electrode of plies ） | 2(Option) |
腔體規(guī)格（Area） | 220(W)*230(D)*230(H) |
氣體通道（Gas） | 兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2 |
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