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三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 詳細(xì)摘要: 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀配有磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。
產(chǎn)品型號: 所在地:合肥市 更新時(shí)間:2020-03-21 參考價(jià):¥ 16 在線留言 -
等離子磁控濺射鍍膜儀系列 詳細(xì)摘要: 等離子磁控濺射鍍膜儀系列儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺,其與濺射頭之間距離可調(diào)
產(chǎn)品型號: 所在地:合肥市 更新時(shí)間:2020-03-21 參考價(jià):¥ 12 在線留言