哈澤爾復合電吸附裝置-電化學除垢水處理是一種水處理技術，通過自建循環(huán)對循環(huán)水進行旁流處理。設備內(nèi)部分陰陽兩極，循環(huán)水經(jīng)過設備時，會發(fā)生一系列變化：在陰極附近形成強堿環(huán)境，使循環(huán)水中的鈣鎂離子從水中析出，并沉積在設備的陰極表面，通過定期清理排出系統(tǒng)。陽極附近氯離子、水中的溶解氧等被變成自由基和次氯酸，使水中的細菌、藻類被直接殺死。

詳細介紹

哈澤爾復合電吸附裝置-電化學除垢水處理

一、哈澤爾復合電吸附裝置-電化學除垢水處理電化學水處理設備利用水垢預沉積和氯離子及氧離子的氧化產(chǎn)物，用于工業(yè)循環(huán)冷卻水、空調(diào)循環(huán)水、工業(yè)循環(huán)制造冷卻水、供水系統(tǒng)（飲用水、熱水系統(tǒng)），從而取代軟化樹脂或者化學藥劑解決結垢和微生物控制的問題。冷卻水在反應室內(nèi)，經(jīng)過電化學作用發(fā)生下列反應：

1) 在陰極（反應室內(nèi)壁）附近形成一個強堿性環(huán)境（PH高達13），使碳酸鈣從水中析出，與沉積的重金屬離子一起附著在內(nèi)壁上。

2) 電流導致懸浮顆粒失穩(wěn)，形成較大絮體沉淀下來。

3) 在陽極附近，氯離子被電解氧化生成游離氯或者次氯酸。

4) 在陽極附近同時生成氫氧根自由基、氧自由基、臭氧以及雙氧水，這些物質(zhì)進一步強化了在反應室內(nèi)和整個水系統(tǒng)的殺菌滅藻效果。

5) 當工作時間達到設定值，控制系統(tǒng)就啟動自動刮垢、排污和清洗程序，刮掉反應室內(nèi)壁的軟質(zhì)水垢，與沉淀物一起排出反應室。同時通過維系冷卻水中的礦物質(zhì)平衡防止系統(tǒng)腐蝕。電化學系統(tǒng)全自動操作，免維修，環(huán)境友好，對水質(zhì)無污

染。同時也防止冷卻塔中軍團菌和其他微生物及藻類滋生。電化學系統(tǒng)提供的清潔循環(huán)冷卻水電化學處理方案，是根據(jù)循環(huán)水系統(tǒng)工藝要求，同時對補充水和循環(huán)水水質(zhì)的科學分析計算得出來的，是一個量身定制的經(jīng)濟技術方案。

二、哈澤爾復合電吸附裝置-電化學除垢水處理電化學設備工作原理

冷卻水從進水閥進入反應室內(nèi)，在陰極附近和陽極附近經(jīng)過電化學作用發(fā)生下列反應：

（1）在陰極（反應室內(nèi)壁）附近產(chǎn)生大量氫氧根離子（OH - ），形成一個強堿性環(huán)境。在鄰近反應室壁的擴散層內(nèi)，強堿性環(huán)境擾亂了水垢的化學平衡。

（2）同時陰極的電流導致溶解的重金屬離子形成沉淀，沉到反應室底部。

（3）在陽極附近，氯離子被電解氧化生成游離氯或者次氯酸。

（4）在陽極附近同時生成氫氧根自由基、氧自由基、臭氧以及雙氧水，這些物質(zhì)進一步強化了反應室內(nèi)和整個水系統(tǒng)的殺菌滅藻效果。

（5）懸浮物（SS）在電場的作用下失穩(wěn)，絮凝沉淀到反應室底部。

（6）在二氧化硅結垢的場合，加裝SCP電解系統(tǒng)用來防止二氧化硅沉淀。除垢過程當電化學設備工作時間達到設定值，控制系統(tǒng)就啟動自動刮垢、排污和清洗程序。進水閥門自動關閉，同時排污閥門開啟，電機啟動刮刀刮掉反應時內(nèi)壁的軟質(zhì)水垢，與沉淀物一起排出反應室。然后進水閥門開啟，刮刀運動，將水垢和沉淀物*清洗干凈。大約2-5分鐘后，排污閥門自動關閉，電化學設備恢復正常工作。電控系統(tǒng)（1）自動刮除水垢、排污和清洗。（2）內(nèi)置電導率測試電路，自動適應水質(zhì)的電導率波動。

三、哈澤爾復合電吸附裝置-電化學除垢水處理主要特點在于：

降低污染物排放，提高濃縮倍數(shù)。

高效率控制微生物，有效降低穿孔腐蝕風險。

大大節(jié)省運行費用，無投資風險。

自動化程度高，簡化循環(huán)水系統(tǒng)管理。

去除水垢看得見摸得著，提高換熱效率。