異味處理低溫等離子設(shè)備由來

是來源于美國等離子技術(shù)，原先主要用于有關(guān)核能與宇宙帶電粒子研究。因為等離子技術(shù)的科研治療溫度低，損傷小，所以在醫(yī)學(xué)上被稱為“微創(chuàng)術(shù)”，又稱為“頭發(fā)絲技術(shù)”。

          異味處理低溫等離子設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：現(xiàn)實生活中，惡臭物質(zhì)、氣體很多，來源亦很廣，主要是由有機物加熱或燃燒，有機溶劑揮發(fā)，肉類加工的廢液、廢渣處理等產(chǎn)生的，皮革廠、噴漆廠、化工廠、制漿造紙廠、屠宰場、污水處理站、垃圾站等都是惡臭的污染源。表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。

新技術(shù)

等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；

等離子處理機具有高穩(wěn)定性、高性價比、高均勻性等諸多優(yōu)點。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備