Genesis-II型掃描電鏡是全數(shù)字化控制，專業(yè)級電子顯微成像分析儀器。
中型分析掃描電鏡（馳奔儀器）采用立方結構樣品室，拓展為中型樣品倉，具有更大有效分析空間，全內(nèi)置五軸優(yōu)中心自動樣品臺，具有更大的自由行程，靈活優(yōu)化電子顯微成像及分析信號幾何效率，獲得更*成像分析效果。

詳細介紹

Genesis-II型（510）是馳奔儀器第二代鎢絲槍掃描電鏡之中型分析掃描電鏡（馳奔儀器）

Genesis-II型掃描電鏡是全數(shù)字化控制，專業(yè)級電子顯微成像分析儀器。
中型分析掃描電鏡（馳奔儀器）采用立方結構樣品室，拓展為中型樣品倉，具有更大有效分析空間，全內(nèi)置五軸優(yōu)中心自動樣品臺，具有更大的自由行程，靈活優(yōu)化電子顯微成像及分析信號幾何效率，獲得更*成像分析效果。

硬件特征：

全數(shù)字控制，專業(yè)級電子光學系統(tǒng)；
主機電器一體化，結構緊湊，占地小；
中型樣品倉，接配專業(yè)EDS、WDS、EBSD、CL等，分析附件探測器更協(xié)調(diào)工作；
優(yōu)中心樣品，五軸馬達驅動，計算機導航；
高真空成像模式。

五軸優(yōu)中心樣品臺
馬達驅動，計算機導航控制

全內(nèi)置設計，樣品臺操作無真空貫穿件活動部件，高可靠

性能指標

型號	Genesis-510 全自動掃描電鏡
樣品臺	五軸優(yōu)中心，全自動 X:90mm \| Y: 60mm \| Z: 5-60mm \| R:360°無限 \| T:-20°~90°
電子槍	預對中鎢燈絲三極自動偏壓
加速電壓	200V-30KV （大發(fā)射電流190μA @ 30KV/大電子槍功率：5.7W)
探測器	ET-SED
物鏡光闌	20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌
分辨率	4nm @30KV ( SEI)
放大倍數(shù)	10-300,000 X
樣品室	Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口
大樣品尺寸	Φ150mm X 60mm
工作距離	0-60mm
掃描光柵運動	電位移 ±50μm，電旋轉 0-360°
掃描模式	聚焦模式：320X240 像素，尺寸可變 TV模式：800x 600像素慢掃描模式，用于TV及聚焦模式。照相模式：800X600、960X720、1024x768、1600x1200、大3200x2400像素
圖像格式	JPG、TIFF、bmp、PNG
真空模式	高真空優(yōu)于9x10-3Pa
真空系統(tǒng)	全自動真空系統(tǒng)，真空高壓連鎖安全保護（高真空時間小于3分鐘） -渦輪分子泵 -旋片式機械真空泵 -電動閥門系統(tǒng)：真空閘板閥、電磁閥等
自動功能	亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和，物鏡光闌搖擺對中
軟件系統(tǒng)	基于Win8，Virtuoso1.1控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。*鼠標鍵盤操作。
主機尺寸/重量	600(W）x623（D）x 1350（H）mm /130kg
電源	單相交流 220V 、50Hz、1KW
耗材附件	預對中燈絲，樣品托，碳導電膠帶，導電銀膠，工具
可選配置	四象限BSED \| 樣品室攝像機 \| 升級LaB6/CeB6陰極 \| 3D重構成像軟件 \| 拉曼光譜 \| EDS能譜儀 \| WDS波譜儀 \| EBSD 電子背散射衍射 \| CL 陰極熒光 \|電子束曝光裝置