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赫爾納貿(mào)易(大連)有限公司

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SEM赫爾納供應(yīng)德國siegert wafer硅片AFM
赫爾納供應(yīng)德國siegert wafer硅片AFM
參考價 4500
訂貨量 1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 SEM
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 大連市

更新時間:2024-10-30 08:21:39瀏覽次數(shù):2106

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【簡單介紹】
赫爾納供應(yīng)德國siegert wafer硅片AFM siegert wafer硅片為了保護晶圓的正面,暫時用 UV 膜覆蓋。

赫爾納供應(yīng)德國siegert wafer硅片AFM


赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢供應(yīng),德國總部直接采購,近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品,為您提供一對一好的解決方案,貨期穩(wěn)定。

公司簡介:

除了硅之外,您當(dāng)然還會在我們的產(chǎn)品組合中找到小批量生產(chǎn) 的由熔融石英、硼浮法和玻璃、藍(lán)寶石和SOI 晶圓制成的基板。SIEGERT WAFER GmbH 也是您在晶圓領(lǐng)域的涂層、格式化或許多其他方面的。我們有能力在研磨和拋光客戶的晶圓。

siegert wafer硅片主要產(chǎn)品:

siegert wafer硅片

siegert wafer硅棒

siegert wafer硅片產(chǎn)品型號:

siegert wafer硅片SEM

siegert wafer硅片AFM

siegert wafer硅片產(chǎn)品特點:

直徑2 英寸(50.8 毫米),3 英寸(76.2 毫米),100 毫米,125 毫米,150 毫米,200 毫米,300 毫米。

生長CZ(直拉),F(xiàn)Z-HPS(浮區(qū),超純硅),F(xiàn)Z-NTD(浮區(qū),中子嬗變摻雜),F(xiàn)Z-GD(浮區(qū),氣體摻雜)。

方向,<100>,<111>,<110>。

電阻率0.001 - 50,000 歐姆-厘米。

厚度100 - 8,000 µm。

表面處理,單面拋光 (SSP),雙面拋光 (DSP),切割,研磨,蝕刻。

siegert wafer硅片產(chǎn)品應(yīng)用:

siegert wafer硅片晶圓研磨是一種減少晶圓厚度的技術(shù)。它也稱為背部打圈或背部細(xì)化。通常它是使用不同的砂輪分幾個步驟完成的。每一步,晶粒尺寸都會變得更細(xì),以消上一步造成的亞表面損傷,并進(jìn)一步降低表面粗糙度。siegert wafer硅片精細(xì)的 Ultrapoligrind 砂輪可產(chǎn)生精細(xì)研磨的反光表面。siegert wafer硅片CMP 預(yù)拋光和拋光是實現(xiàn)表面質(zhì)量的后步驟?;瘜W(xué)機械拋光 (CMP) 通常分兩個階段進(jìn)行:預(yù)拋光去除先前步驟中表面上和表面下方的殘留損傷,siegert wafer硅片而在隨后的拋光中,通過平滑將所謂的霧度水平降至低晶圓表面。所實現(xiàn)的平坦表面結(jié)構(gòu)和 ?ngstr?m 范圍內(nèi)的粗糙度新應(yīng)用的要求。

siegert wafer硅片為了保護晶圓的正面,暫時用 UV 膜覆蓋。該薄膜可以在運送給客戶之前去除,也可以留在晶圓上以保護表面并防止運輸過程中破裂。siegert wafer硅片作為硅片供應(yīng)商,我們可以為您需要的規(guī)格。在我們這里,您將找到來自直拉 (CZ) 和浮區(qū) (FZ) 培養(yǎng)工藝的純度硅片。個別規(guī)格常也可以小批量實施。我們?yōu)槟鉀Q方案,是單個晶圓也可以在潔凈室中分離。

siegert wafer硅片磨削工作,磨削服務(wù),例如磨削較小直徑的適配器/袋(袋式晶圓),切割循環(huán)、格式化(切割),將晶圓分離成小芯片材料:硅、玻璃、石英、藍(lán)寶石,激光加工 激光加工,貼標(biāo)、打標(biāo)、激光切割,涂層siegert wafer硅片金屬化PVD/ CVD / 電鍍 / 氣相沉積 干法和濕法氧化,低溫氧化物 siegert wafer硅片LPCVD 氮化物 / PECVD 氮化物,多晶硅,光刻膠,ITO(氧化銦錫)去除晶圓背面的 SiO2,通過保護正面和高頻浸蝕來 siegert wafer硅片去除背面氧化晶圓分離 晶圓分離,可以將晶圓從一塊開始 分離為庫存物品,siegert wafer硅片計量SEM,AFM類型和電阻率檢查,橢偏儀,晶圓幾何形狀 (E&H MX-204)

層厚度測量 (Filmetrics F50-NIR)。

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