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當(dāng)前位置：上海雋思實驗儀器有限公司>>HMDS烘箱>>HMDS預(yù)處理系統(tǒng)>> JS-MOL00HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機
產(chǎn)品型號JS-MOL00
品 牌雋思
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時間：2024-05-21 16:34:29瀏覽次數(shù)：684次
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HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備 工業(yè)烘箱
| 材質(zhì) | 316L不銹鋼 | 工作室尺寸 | 45mm |
|---|---|---|---|
| 功率 | 2500 | 類型 | 真空 |
| 適用范圍 | MEMS,氮化鎵，砷化鎵，半導(dǎo)體 | 溫度范圍 | 230℃ |
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機用途
使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機應(yīng)用行業(yè)
MEMS系統(tǒng)
CVD薄膜；
光刻
用于光刻膠附著力的 HMDS
作為聚合物和基材之間的粘合層
作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層；
噴墨
防止墨水積聚在噴嘴面板上，確保墨水流動不受限制；
生物MEMS
親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性，或防止蛋白質(zhì)吸收，或減少器件性能的“漂移"
微陣列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織；
光學(xué)和 AR/VR 應(yīng)用
修改光學(xué)特性
創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層；
圖像反轉(zhuǎn)
金屬剝離工藝，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝；
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機技術(shù)性能
材質(zhì)：內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
工藝溫度：100-150℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人機界面，一鍵作業(yè)
層數(shù):2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理：圖像反轉(zhuǎn)
真空泵: 進口無油泵
保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
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