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杭州電解法二氧化氯發(fā)生器

 一、電解法二氧化氯發(fā)生器
    是以食鹽電解產(chǎn)生次氯酸鈉，設(shè)備含鎮(zhèn)流器、電解槽、次氯酸鈉成品槽、投加系統(tǒng)等。
    zui大優(yōu)點(diǎn)：
    原料來(lái)源方便，用食鹽和電，在國(guó)內(nèi)城市、鄉(xiāng)村或比較偏遠(yuǎn)的地方原料都能較方便的組織到。
    不足點(diǎn)：
  1、設(shè)各系統(tǒng)復(fù)雜、件數(shù)多、占地大、安裝較復(fù)雜、購(gòu)買投資較大。
  2、電流效率低：所用食鹽沒(méi)有可能象電化廠電解操作一樣，先將食鹽凈化，除去鈣、鎂、硫酸根等雜質(zhì)離子，這些雜質(zhì)離子在電極間反復(fù)放電，消耗電能，造成電解過(guò)程電流效率很低，用電成本大。
  3、電極放電會(huì)引起爆槽：電解槽的正負(fù)極一般都是從上插入食鹽水中，在電解過(guò)程中，電解產(chǎn)生的氫氣和水蒸汽會(huì)含帶食鹽一道從食鹽水中揮發(fā)出來(lái)，造成液面上的電極結(jié)鹽，電極間距很小，結(jié)鹽會(huì)造成電極短路、打火花，引起可爆氣體(氫氣、lv氣)爆槽，許多電解法次氯酸鈉設(shè)備都發(fā)生過(guò)此事故。
  4、電極需定期做表而重涂：電極一般采用鈦材，在表而需要涂稀有金屬涂層，使用一段時(shí)間后，涂層脫落，需重新做表而涂層，不然嚴(yán)重影響電流效率和效果，一般重涂花費(fèi)較大。
  5、電解法設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜，操作、維護(hù)也較復(fù)雜。
  6、電解槽的氣密性不好，會(huì)有lv氣等刺激、腐蝕性氣體擴(kuò)散出來(lái)，使得設(shè)備操作間刺激氣味大，對(duì)設(shè)備造成腐蝕嚴(yán)重。
  7、電解法二氧化氯發(fā)生器電解生成產(chǎn)物主要是次氯酸鈉和lv氣，二氧化氯含量極少，次氯酸鈉與lv氣會(huì)與水體中有機(jī)物發(fā)生氯代反應(yīng)，生成三鹵甲烷等致癌物質(zhì)。

二、化學(xué)法二氧化氯發(fā)生器
    是以氯酸鈉和鹽酸為原料，經(jīng)化學(xué)反應(yīng)生成二氧化氯，設(shè)各由原料貯槽、原料輸送裝置、反應(yīng)器、投加裝置、電控裝置等組成，特點(diǎn)主要如下：
  1、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，占地面積小，安裝、操作、維護(hù)方便。
  2、安全性能強(qiáng)，設(shè)備不可能出現(xiàn)爆炸事故。
  3、設(shè)備密閉性好，沒(méi)有刺激氣味泄漏，操作環(huán)境沒(méi)有氣味。
  4、設(shè)備檔次高：能實(shí)現(xiàn)流量檢測(cè)自動(dòng)控制加藥和余氯檢測(cè)自動(dòng)控制加藥以及可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)傳計(jì)算機(jī)控制，可以滿足]：不同加藥現(xiàn)場(chǎng)使用，如給清水池、高位水塔、帶壓管網(wǎng)加藥。
 5、二氧化氯得率高，反應(yīng)產(chǎn)物主要是二氧化氯及少量lv氣。
 6、殺菌能力強(qiáng)：二氧化氯是強(qiáng)氧化劑，高效殺菌劑，殺菌能力大約是lv氣的5倍，能有效殺滅水體中的致病菌，并具有很好的去藻、去異味、去色作用，也有很好的除鐵、除錳能力。
 7、二氧化氯與水體中有機(jī)物不會(huì)發(fā)生氯代反應(yīng)，不生成三鹵甲烷等致癌物質(zhì)。
    國(guó)內(nèi)經(jīng)過(guò)十來(lái)年的開(kāi)發(fā)、應(yīng)用，化學(xué)法二氧化氯發(fā)生器已比較成熟，已成為不同領(lǐng)域?qū)λw消毒、殺菌、氧化等處理過(guò)程中*設(shè)備，應(yīng)用已十分廣泛。

杭州電解法二氧化氯發(fā)生器

二氧化氯發(fā)生器工作原理：
二氧化氯發(fā)生器（化學(xué)法）是由供料系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、吸收系統(tǒng)、安全系統(tǒng)組成。將鹽酸與氯酸鈉溶液按一定的比例經(jīng)過(guò)供料系統(tǒng)投加到反應(yīng)系統(tǒng)中，在一定的溫度下反應(yīng)生成二氧化氯的混合氣體，經(jīng)吸收系統(tǒng)直接進(jìn)入消毒系統(tǒng)，根據(jù)不同水質(zhì)（不同投加量）直接投加到需要處理的各類水中，完成二氧化氯和lv氣的協(xié)同消毒、氧化等作用即達(dá)到消毒的目的，其反應(yīng)機(jī)理如下： NaCLO3+2HCL=CLO2↑+1/2CL2↑+NaCL+H2O
5NaC1O2+4HC1=4C1O2+5NaC1+2H2O