上海班德環(huán)保設(shè)備有限公司
主營產(chǎn)品: 低溫等離子設(shè)備,光催化氧化設(shè)備,活性炭設(shè)備,水洗凈化塔 |
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更新時間:2018-05-15 15:59:20瀏覽次數(shù):1129
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浙江上海松江鋁塑板噴漆廢氣顆粒物處理(:-188 :黃工)
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浙江上海松江鋁塑板噴漆廢氣顆粒物處理設(shè)備介紹
1、光催化是利用TiO2作為催化劑的光催化過程,反應(yīng)條件溫和,光解迅速,產(chǎn)物為CO2和H2O或其它,而且適用范圍廣,包括烴、醇、醛、酮、氨等有機物,都能通過TiO2光催化清除。
2、其機理主要是光催化劑*吸收光子,與表面的水反應(yīng)產(chǎn)生羥基自由基(·OH)和活性氧物質(zhì)(·O,H2O2),其中羥基自由基(·OH)是光催化反應(yīng)的一種主要的活性物質(zhì),對光催化氧化起決定作用。
3、羥基自由基具有120kJ/mol的反應(yīng)能,高于有機物中的各類化學(xué)鍵能,如:C-C(83kJ/mol),C-H(99 kJ/mol),C-N(73kJ/mol),C-O (84kJ/mol),H-O (111kJ/mol),N-H(93 kJ/mol),因而能迅速有效地分解揮發(fā)性有機物和構(gòu)成細菌的有機物,再加上其它活性氧物質(zhì)(·O,H2O2)的協(xié)同作用,其殺菌效果更為迅速。
設(shè)備原理
1、其機理為: Fe(OH)2++ hv→Fe2++2·OH 由于上述反應(yīng)存在,使得H2O2的分解速率遠大于Fe2+催化H2O2的分解速率。
2、當(dāng)用光照半導(dǎo)體材料,如果光子的能量高于半導(dǎo)體的禁帶寬度,則半導(dǎo)體的價帶電子從價帶躍遷到導(dǎo)帶,產(chǎn)生光致電子和空穴(如半導(dǎo)體TiO2的禁帶寬度為3.2eV)。當(dāng)光子波長小于385nm時,電子就發(fā)生躍遷,產(chǎn)生光致電子和空穴。光致電子空穴具有很強的氧化性,可奪取半導(dǎo)體顆粒表面吸附的有機物或溶劑中的電子,使原本不吸收光而無法被光子直接氧化的物質(zhì),通過光催化劑被活化氧化。
3、光致電子具有很強的還原性,使得半導(dǎo)體表面的電子受體被還原。但是遷移到表面的光致電子和空穴又存在符合的可能,降低了光催化反應(yīng)的效率。為了提高光催化效率吧,需要適當(dāng)?shù)姆@劑,降低電子和空穴復(fù)合的可能性,這是近年來光催化研究的重點。光催化氧化還原機理可以分為幾個階段:光催化劑在光照射下產(chǎn)生電子空穴對;表面羥基或水吸附后形成表面活性中心;表面活性中心吸附水中的有機物;羥基自由基形成,有機物被氧化;氧化產(chǎn)物分離。
設(shè)備參數(shù)
型號 | 處理風(fēng)量 | 規(guī)格尺寸(mm) | 進出尺寸(mm) | 設(shè)備阻力 | |
Ф(直徑) | H(高度) | ||||
BD-XT-010 | 2700 | 600 | 3915 | Ф300 | 400 Pa |
BD-XT-012 | 4200 | 750 | 3965 | Ф350 | 450 Pa |
BD-XT-023 | 6000 | 900 | 4015 | Ф450 | 500 Pa |
BD-XT-026 | 7800 | 1050 | 4195 | Ф500 | 500 Pa |
BD-XT-031 | 10200 | 1200 | 4315 | Ф560 | 550 Pa |
BD-XT-033 | 13200 | 1350 | 4430 | Ф630 | 550 Pa |
BD-XT-042 | 16200 | 1500 | 4530 | Ф700 | 550 Pa |
BD-XT-048 | 19200 | 1650 | 4630 | Ф750 | 600 Pa |
BD-XT-052 | 22800 | 1800 | 4840 | Ф850 | 600 Pa |
BD-XT-063 | 31800 | 2100 | 4620 | Ф900 | 600 Pa |
BD-XT-078 | 42000 | 2450 | 4750 | Ф1050 | 600 Pa |
(:-188 :黃工)
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