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詳細(xì)摘要： edi超純水系統(tǒng) 概述：液晶面板生產(chǎn)大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進(jìn)行化學(xué)處理，水質(zhì)不純將直接影響產(chǎn)品部件性能，因而在...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-05-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 去離子超純水設(shè)備 概述：去離子超純水對(duì)TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴(yán)格，達(dá)到PP級(jí)，產(chǎn)水水質(zhì)要求在18.2MΩ*cm（25℃）以上。去離...
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詳細(xì)摘要： 工業(yè)超純水設(shè)備 概述：液晶面板生產(chǎn)大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進(jìn)行化學(xué)處理，水質(zhì)不純將直接影響產(chǎn)品部件性能。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-05-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 電子芯片超純水設(shè)備 概述：電子芯片超純水對(duì)TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴(yán)格，達(dá)到PP級(jí)，產(chǎn)水水質(zhì)要求在18.2MΩ*cm（25℃）以上。
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詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體生產(chǎn)用超純水設(shè)備 概述：半導(dǎo)體生產(chǎn)用超純水對(duì)TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴(yán)格，達(dá)到PP級(jí)，產(chǎn)水水質(zhì)要求在18.2MΩ*cm（25℃...
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詳細(xì)摘要： 光學(xué)材料生產(chǎn)用超純水設(shè)備 概述：光學(xué)材料生產(chǎn)用超純水設(shè)備包括四個(gè)流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。因?yàn)橄礈爝^(guò)程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、...
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詳細(xì)摘要： 制水工藝： 二級(jí)RO+EDI產(chǎn)水量： 0.5-50噸/小時(shí)（根據(jù)需求定制）電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m占地面積： 10平方米適用范圍： 電鍍/化工/鍋爐/食...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-05-29 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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