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北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
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北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
產(chǎn)品型號(hào)PE-CVD
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
聯(lián)系方式：于磊查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2025-05-30 10:29:34瀏覽次數(shù)：650次
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經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家
商鋪產(chǎn)品：71條
所在地區(qū)：北京北京市
聯(lián)系人：于磊 （銷(xiāo)售部經(jīng)理）
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 爐膛直徑 | 60mm |
|---|---|---|---|
| 溫度 | 1200℃ | 溫區(qū)數(shù)量 | 3個(gè) |
| 射頻電源功率 | 300W | 質(zhì)量流量計(jì) | 3個(gè) |
| 極限真空度 | 1Pa |
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積真空鍍膜設(shè)備
PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學(xué)氣象沉積(CVD)反應(yīng)溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應(yīng)裝置將反應(yīng)氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，所以這個(gè)系統(tǒng)稱(chēng)為增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積真空鍍膜設(shè)備
PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學(xué)氣象沉積(CVD)反應(yīng)溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應(yīng)裝置將反應(yīng)氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，所以這個(gè)系統(tǒng)稱(chēng)為增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)。
該型號(hào)PECVD為單溫區(qū)系列款，綜合了國(guó)內(nèi)大多數(shù)廠家的管式PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了維意自主研發(fā)的實(shí)驗(yàn)電爐AIO全自動(dòng)智能控制系統(tǒng)，使得操作更加簡(jiǎn)便，功能更加強(qiáng)大。
主要特點(diǎn)：
1. AIO控制系統(tǒng)——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個(gè)7英寸觸摸屏進(jìn)行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控，協(xié)調(diào)控制;
2. 管內(nèi)壓力自動(dòng)平衡——管內(nèi)壓力實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，自動(dòng)平衡管內(nèi)壓力。
3. 智能氣路通斷——每路氣體均可定時(shí)通斷，省時(shí)省力;
4. 射頻功率和開(kāi)關(guān)定時(shí)控制——預(yù)先設(shè)定好功率的大小和打開(kāi)與關(guān)閉的時(shí)間，自動(dòng)運(yùn)行;
5. 爐膛移動(dòng)速度可調(diào)——根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，用戶(hù)可設(shè)定爐膛左右移動(dòng)的速度可距離;
6. 整機(jī)結(jié)構(gòu)融為一體——移動(dòng)方便，避免分散組裝的困擾。
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積真空鍍膜設(shè)備
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