污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
邁可諾技術(shù)有限公司
產(chǎn)品型號(hào)PPC973
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間:2022-10-15 09:35:07瀏覽次數(shù):616次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線頻率頻射 | 2.45GHz |
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PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺(tái)臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。
PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺(tái)臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。
產(chǎn)品特色
負(fù)載循環(huán)控制,模擬功率控制
處理機(jī)存儲(chǔ)
水冷底座
減少污水排放
安全保護(hù)設(shè)計(jì)
操作簡(jiǎn)便 維護(hù)方便
應(yīng)用范圍:
混合電路板制造中基片的清洗
打線工藝前清洗電子部件,提高其可靠性
錫焊或焊接工藝前,關(guān)鍵性鍍金部件的清洗
清洗半導(dǎo)體元器件
光刻膠去膠
上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準(zhǔn)備
鍍膜前對(duì)光學(xué)器件清洗
清洗石英、藍(lán)寶石及其它材料
適用工藝:
打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊;
去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環(huán)氧殘留物;
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學(xué)部件、清洗半導(dǎo)體表面、清洗鍍銀部件;
塑膠密封劑去除--失效模式分析
型號(hào) | PPC862 | PPC973 |
反應(yīng)艙尺寸(H*W*D) | 203mm x 152 mm x 50mm | 229 x 178 x 76 mm |
冷卻面(H*W) | 203 mm x 152 mm | 229 mm x 178 mm |
反應(yīng)艙 | 方形艙體 | 方形艙體 |
反應(yīng)艙材質(zhì) | 派熱克斯玻璃&鋁材 | 派熱克斯玻璃&鋁材 |
水冷式 | 水冷裝置 | 水冷裝置 |
負(fù)載比 | 10%至連續(xù)性 | 10%至連續(xù)性 |
標(biāo)準(zhǔn)流量 | 5cu-ft./Hr.@STP | 5cu-ft./Hr.@STP |
頻率(GHz) | 2.45 GHz | 2.45 GHz |
功率(Watts) | 100至750之間調(diào)節(jié) | 100至750之間調(diào)節(jié) |
重量 (Kg) | 29.5kg | 38.5kg |
真空泵系統(tǒng) | 抽氣速率3.8cfm/分 | 抽氣速率3.8cfm/分 |
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 微波等離子清洗機(jī) 2.45GHz等離子清洗機(jī) 等離子去膠機(jī) 等離子清洗機(jī) 等離子刻蝕機(jī) |
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