德國INFICON薄膜沉積控制器
INFICON是儀器，關(guān)鍵傳感器技術(shù)和過程控制軟件的提供商，這些產(chǎn)品可復(fù)雜工業(yè)真空工藝的生產(chǎn)率和質(zhì)量。這些分析，測量和控制產(chǎn)品對于空調(diào)/制冷和汽車制造中的氣體泄漏檢測。對于光學(xué)和平面顯示器，太陽能電池和工業(yè)真空鍍膜應(yīng)用中的半導(dǎo)體和薄膜鍍膜的復(fù)雜制造，它們對于設(shè)備制造商和終用戶。我們基于真空的工藝的其他用戶包括生命科學(xué)，研究，航空航天，包裝，熱處理，激光切割和許多其他工業(yè)工藝。我們還利用我們在真空技術(shù)方面的知識來提供的，
INFICON薄膜沉積控制器：
IC6薄膜沉積控制器
XTC / 3薄膜沉積控制器
Cygnus®2薄膜沉積控制器
SQC-310薄膜沉積控制器
產(chǎn)品應(yīng)用說明：
INFICON薄膜沉積控制器IC6沉積控制器允許使用QCM傳感器控制沉積過程的速率。從基本的功能到大的功能，INFICON均可提供沉積控制器以滿足您的需求。市場的 NFICON 薄膜沉積控制器、監(jiān)測器和 QCM 測量儀能夠以*的測量速度和精度控制復(fù)雜過程的沉積率和厚度。高級軟件和邏輯 I/O 功能使我們的薄膜沉積控制器/QCM 測量儀能夠*集成到真空系統(tǒng)中，從而實現(xiàn)自動過程控制?？刂撇荒敲磸?fù)雜的過程時，可使用 INFICON 經(jīng)濟型精密控制器、監(jiān)測器和 QCM 測量儀，它們的薄膜測量精度比傳統(tǒng)技術(shù)高出 100 倍。
典型的 QCM 系統(tǒng)包括石英晶體 (感測裝置)、晶體支架 (傳感器，用于固定晶體并實現(xiàn)與晶體的電氣連接)、用于驅(qū)動晶體的振蕩器 (對于 ModeLock 測量儀，則為 XIU)、控制器或監(jiān)測器 (用于讀取沉積率和厚度并存儲過程參數(shù))。INFICON 既可提供完整的 QCM 系統(tǒng)，又可提供為研究應(yīng)用設(shè)計的單個部件。
IC6薄膜沉積控制器在INFICON薄膜沉積控制器成熟的性能基礎(chǔ)上，增添了更多的功能，可幫助您實現(xiàn)沉積過程的價值。IC6使用我們的ModeLock頻率測量系統(tǒng)，提供穩(wěn)定，逐步的速度和厚度測量，額定分辨率可達每1/10秒0.00433Å/ s，是行業(yè)中的。IC6具有其他石英晶體控制器擬的性能，品質(zhì)和功能，確認您的過程可重復(fù)性。
主要技術(shù)參數(shù)：
INFICON ModeLock技術(shù)獲得，穩(wěn)定的速率和厚度測量分辨率，即使在速率的情況下
Auto Z技術(shù)通過自動測定沉積材料的Z比值，可厚度測量的精度
支持多六個來源同時共沉積
彩色TFT LCD顯示屏使用戶很容易看到過程的進展?fàn)顩r
100ms樣本速率下頻率范圍為+/- 0.0035 Hz
U數(shù)據(jù)存儲功能可存儲屏幕截圖，配方存儲和數(shù)據(jù)記錄
強大的I / O能夠充分利用其可集成的簡單或復(fù)雜的系統(tǒng)(使用可擴展輸入(28)和輸出(24繼電器，14 TTL輸出)，并充分利用邏輯功能(100個邏輯語句)
6個標(biāo)準(zhǔn)DAC輸出和另6個可選輸出的源控制，速率或厚度監(jiān)控
可容納多50個過程，每個過程200層，這些過程關(guān)聯(lián)到一起，總共可容納10,000層。
多路傳感器可平均分配為8個傳感器
4米XIU選件能夠在大型系統(tǒng)中使用替代的真空傳感器電纜
可選以太網(wǎng)通信
可選的IC6配置編輯器軟件(件號781-620-G1)-基于LabVIEW®的Windows®軟件，允許離線創(chuàng)建和編輯IC6配置文件，并將IC / 5配置文件轉(zhuǎn)換為IC6格式。
合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
光學(xué)鍍膜
(1)工具/密度= 100/1，基礎(chǔ)頻率= 6兆赫茲
(2)隨過程變化;數(shù)值表示典型的精度
(3)每種類型的配置
(4)IC6有6個DAC輸出標(biāo)準(zhǔn)，其余再選擇再添加6個?？蓪?2個中的任何一個配置為來源控制電壓或記錄器輸出，但可同時控制的來源數(shù)量為6
相關(guān)產(chǎn)品
Cygnus®2薄膜沉積控制器
SQC-310薄膜沉積控制器
XTC / 3薄膜沉積控制器
IQM-233薄膜沉積控制器PCI-Express卡
