濟南鉑銳可針對以下印刷企業(yè)提供針對性廢氣治理方案：書刊印刷、報紙印刷、廣告印刷、稅票印刷、包裝裝潢印刷及特種印刷等各種印刷企業(yè)；

結合我們的工程經(jīng)驗和我們的生產(chǎn)供貨范圍，我們并不標榜自己適合處理各種印刷廢氣，但是，以下工序產(chǎn)生的印刷廢氣，屬于我們擅長治理的范圍：

• 平版印刷過程中產(chǎn)生的廢氣
• 膠印工序中產(chǎn)生的廢氣
• 覆膜、上光、壓光、燙金、對裱、糊盒等印后工序產(chǎn)生的廢氣

可治理的印刷廢氣種類，包括并不限于：乙酸、苯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、異丙醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯等

印刷廢氣排放分析

印刷生產(chǎn)VOCs排放來源于所使用的油墨及稀釋劑、水斗液、清洗劑(洗車水)、復合(涂布)用膠粘劑(于部分存在復合工藝的印刷企業(yè))及上光劑，潛在的排放環(huán)節(jié)有：油墨調配過程溶劑揮發(fā)、油墨轉移過程溶劑揮發(fā)、印刷過程溶劑揮發(fā)、印刷過程油墨溶劑揮發(fā)、烘干階段、復合過程、涂布過程、上光過程及設備清洗過程等。

印刷生產(chǎn)工藝流程及主要VOCs產(chǎn)生環(huán)節(jié)附圖1所示：

廢氣治理方案：

印刷行業(yè)廢氣治理的總體思路如下：

• 在凹版印刷和復合膜復合工藝，由于VOCs的濃度相對較高，通?？梢赃M行回收利用，采用吸附回收技術；
• 在其他印刷工藝中，VOCs的濃度較低，采用吸附濃縮技術、蓄熱燃燒技術、催化燃燒技術和低溫等離子體技術等。

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（1）吸附技術，主要采用的裝置為活性炭吸附裝置。

在凹版印刷和復合工藝中，由于VOCs的濃度較高，采用吸附回收技術對廢氣中的溶劑進行回收通常具有較好的經(jīng)濟效益。

根據(jù)吸附劑再生工藝的不同，目前常用的吸附回收工藝包括水蒸氣再生工藝和氮氣解析再生工藝兩種。

吸附材料主要為活性炭顆粒和活性炭纖維兩類。

（2）吸附濃縮-催化燃燒技術

對于凹版印刷和復合膜復合過程產(chǎn)生的廢氣，如果回收量小不宜進行回收時，一般采用吸附濃縮-催化燃燒技術進行治理；

對于其他類型（平板、膠印等）的印刷廢氣、車間集中排放廢氣等，由于VOCs濃度較低，一般也可以采用吸附濃縮-催化燃燒技術進行治理。

目前在國內多采用蜂窩活性炭濃縮+催化燃燒技術，該技術投資和運行費用都較低，對于印刷廢氣可以實現(xiàn)達標排放的要求，在印刷行業(yè)廢氣治理中得到了廣泛地應用。

采用蜂窩活性炭濃縮技術，一般采用熱空氣對活性炭進行再生，安全性較差，特別是有酮類化合物（如丁酮）存在的情況下，活性炭的燃點降低，在再生過程中容易發(fā)生著火現(xiàn)象。因此，目前國外普遍采用蜂窩狀的分子篩轉輪+催化燃燒工藝，分子篩作為吸附材料，避免了活性炭的著火問題，安全性大大提高。但由于設備造價高，在國內的印刷業(yè)廢氣治理中尚未得到大規(guī)模的應用。

（3）低溫等離子體技術，主要裝置是低溫等離子廢氣處理設備。

低溫等離子體凈化技術是近年來發(fā)展起來的廢氣治理新技術。對于平板、膠印等工藝產(chǎn)生的廢氣，VOCs濃度一般較低，采用一級或多級等離子體凈化后可以實現(xiàn)達標排放的要求。

等離子體被稱為物質的第4種形態(tài)，由電子、離子、自由基和中性粒子組成。低溫等離子體有機氣體凈化就是利用介質放電所產(chǎn)生的等離子體以快的速度反復轟擊廢氣中的異味氣體分子，去激活、電離、裂解廢氣中的各種成分，通過氧化等一系列復雜的化學反應，打開污染物分子內部的化學鍵，使復雜大分子污染物轉變?yōu)橐恍┬》肿拥陌踩镔|（如二氧化碳和水），或使有毒有害物質轉變?yōu)闊o毒無害或低毒低害的物質。

低溫等離子體凈化技術的優(yōu)點是：

• 設備投入成本低，凈化效率高，可滿足排放標準要求
• 離子體反應器阻力低，系統(tǒng)的動力消耗低，因此，相比于其他凈化技術，運行成本低
• 不需要預熱，凈化裝置可以即時開啟與關閉；
• 所占空間比現(xiàn)有的其他技術更小；
• 裝置簡單，易于進行安裝和搬遷。

缺點是：

• 只適用于低濃度廢氣凈化；
• 在處理印刷廢氣時，一般需要安裝預處理設備，常常需要配合活性炭吸附裝置、光催化氧化裝置、噴淋塔、過濾器等使用。

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由于印刷行業(yè)VOCs廢氣成分及性質的復雜性和單一治理技術的局限性，在很多情況下，采用單一技術往往難以達到治理要求，而且也是不經(jīng)濟的。

濟南鉑銳建議，在印刷廢氣治理過程中，要利用不同治理技術的優(yōu)勢，采用組合治理工藝，這樣不僅可以滿足排放要求，同時可以降低凈化設備的運行費用。zui常采用的組合治理技術如下：

• 吸附-冷凝技術，適用于廢氣濃度2000 mg/m³以上、有回收利用價值的工序；
• 吸附-燃燒技術，適用于廢氣濃度為500-2000mg/m³的工序；
• 光催化-低溫等離子體技術，適用于廢氣濃度500 mg/m³以下的工序，廢氣濃度300 mg/m³以下的工序使用更佳。