負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器采用化學(xué)法現(xiàn)場制備二氧化氯并同時進(jìn)行投加的設(shè)備，外形結(jié)構(gòu)為落地柜式。投加水射 器在柜式發(fā)生器內(nèi)。T70G4000生成CLO2（二氧化氯）的反應(yīng)物：NaCLO2（亞氯酸鈉）+ HCL（鹽酸）。T70GC4000生成CLO2的反應(yīng)物：NaCLO2+HCL+NaCLO（次氯酸鈉）。 T70GT4000生成CLO2的反應(yīng)物：NaCLO2+CL2（氯氣）。所產(chǎn)生CLO2的生成物含量在 95%以上。該系統(tǒng)為負(fù)壓投加系統(tǒng)（不同于采用計(jì)量泵的正壓投加系統(tǒng)）。因而安全性及可靠 性更高。 壓力水流經(jīng)水射器生成負(fù)壓，吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合，投入工藝過程。流入 發(fā)生器的反應(yīng)物，由浮子流量計(jì)測量流量。如果是手動操作的發(fā)生器，反應(yīng)物投加量和二氧化氯 發(fā)生量由流量計(jì)本身帶的手動閥控制。反應(yīng)物和用以優(yōu)化反應(yīng)的水被抽取進(jìn)入反應(yīng)塔，從塔中流 出的二氧化氯溶液流過一個觀察鏡，可以通過顏色來估計(jì)產(chǎn)出量。如果系列為自動控制，流過流 量計(jì)的反應(yīng)物由一個三個閥座的CHLOROMATIC閥控制，這個閥的閥芯的形狀可以反映正確的 劑量比。閥的執(zhí)行器可接受外部控制裝置的4~20mA控制信號，自動調(diào)節(jié)二氧化氯的發(fā)生量。 負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 特 點(diǎn) - 高產(chǎn)出率：CLO2產(chǎn)生率＞95%
- 運(yùn)行費(fèi)用低：使用商品濃度原料，無需稀釋
- 低維護(hù)費(fèi)用：可動部件少，負(fù)壓運(yùn)行，部件過壓損壞率低
- 準(zhǔn)確：原料進(jìn)入為流量計(jì)直接測量，精度高
- 運(yùn)行安全：負(fù)壓操作，無產(chǎn)生壓力的泵，無外泄之慮直接投加，不需存儲所產(chǎn)生的CLO2
- 高效自控：可實(shí)現(xiàn)多種自動控制方式
負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 技術(shù)參數(shù) - 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h T70GT4000 15kg/h~30kg/h
T70GC4000 350g/h~9kg/h - 低發(fā)生量：T70G4000 80,150g/h NaCLO2 7.5%（80g/L，у=1.07）
HCL 8.5%（88g/L,у=1.04） - 消耗：CLO2（1g）←→NaCLO2（23.2mL）+HCL（23.2mL）
- 高發(fā)生量：300g~10kg/h~30kg/h NaCLO2 25%（306g/L,у=1.22）
HCL 32%（371g/L,у=1.16） NaCLO 14%（у=1.20） - 消耗：CLO2（1g）←→NaCLO2（6mL）+HCL（4.3mL）
CLO2（1g）←→NaCLO2（4.25mL）+HCL2（0.55gg） - 稀釋水壓力：≤150kpa穩(wěn)定
- 控制輸入：4~20mA
- 化學(xué)品容器標(biāo)高：容器底部min1.5m高度
- 水射器工作水壓：max.2.0MPa
- 發(fā)生器環(huán)境溫度：5~30℃，*佳20℃
- 自動控制輸出信號：1.控制閥位4~20mA（1）
2.自動手動切換SPDT觸點(diǎn)（1） 3.低真空觸點(diǎn)SPDT觸點(diǎn)（1）（選擇項(xiàng)） 4.反應(yīng)物缺乏報警SPDT觸點(diǎn)（2） - 調(diào)節(jié)范圍：建議50~99%投加量
- 控制方式：詳見下圖
- 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm
注：反應(yīng)物中不能含有氫氟酸。從反應(yīng)物容器至發(fā)生器管路上應(yīng)安裝過濾器。 二氧化氯發(fā)生器投加系統(tǒng)控制方式 對控制系統(tǒng)配置選擇殘余量及復(fù)合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器，系統(tǒng)配置設(shè)計(jì) 請咨詢上海費(fèi)波自控技術(shù)有限公司。 A.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 手動控制 流量比例控制 C.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 二氧化氯殘余量負(fù)反饋控制 二氧化氯殘余量和水流量復(fù)合環(huán)控制 | 
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